Semiconductor Portal

プロセス

» キーワード » 設&] » プロセス

ギガフォトン、EUVの出250W達成

ギガフォトン、EUVの出250W達成

小松作所の100%子会社であるギガフォトンは、EUVリソグラフィの実化レベルにZい出250WのEUV光源を開発したと7月6日発表した。EUVは今やオランダのASMLしか}Xけておらず、同社が微細化\術を先行している。先週は久しぶりにリソグラフィの発表があり、キヤノンが半導向けのリソグラフィを2機、発表した。 [→きを読む]

東、NANDフラッシュの微細化にナノインプリント

東、NANDフラッシュの微細化にナノインプリント

久しぶりに半導のるいニュースが先週~け巡った。東が、微細化\術としてナノインプリント\術を使ってNANDフラッシュを微細化するというニュースだ。6月3日の日本経済新聞が報じたもの。NANDフラッシュは、クラウドストレージ向けにこれから要性が\し、IoTシステムのk環を形成する。クラウドビジネスがIoTとk緒になりAI(人工(m┬ng)Α砲砲茲襯如璽寝鮴呂砲きていく。 [→きを読む]

VLSI Symposium、日本\術のT在感

VLSI Symposium、日本\術のT在感

6月13〜17日ハワイで開(h┐o)される2016 Symposium on VLSI Technology and Circuits(通称、VLSI Symposium)の採Ib文がまった。VLSIのデバイス・プロセスを扱うTechnologyでは、投MP数214の内、採Iされたb文は85P、v路\術を扱うCircuitsでは、375Pの投Mに瓦靴97Pの採Iであった。v路関係の内容はIoTk色である。 [→きを読む]

2期`を迎えた東j(lu┛)CIESセンター

2期`を迎えた東j(lu┛)CIESセンター

東j(lu┛)学のキャンパス内に2012Qに設立された国際集積エレクトロニクス研|開発センター(CIES)が昨Qにき、今Qも\術報告会であるCIES Technology Forumを開(h┐o)した。今Qは2vとなる。CIESは、文隹奮愍覆任呂覆、c間企業からの出@をpけて構成された研|所であり、c間企業が求めるテーマを中心に研|されている。現在センター長である遠藤哲r(hu━)(図1)にこれまでの研|所やコンソーシアムとの違い、成果などについて聞いた。 [→きを読む]

(d┛ng)い! 国内]メーカー

(d┛ng)い! 国内]メーカー

Intelが半導]や材料のサプライヤーに瓦靴突燭┐襦2016QのSCQI(Supplier Continuous Quality Improvement)賞のp賞企業が発表された。数h社から(li│n)ばれたp賞企業8社の内、7社が日本メーカーであった。 [→きを読む]

MRAMを軸に成長の機会を探る、2nd CIES Tech Forum

MRAMを軸に成長の機会を探る、2nd CIES Tech Forum

「東日本j(lu┛)震uからの復興とは、元に戻すことだけにとどまらない。次への成長を期待できる仕組みを作ることだ」。このような思いを胸に、東j(lu┛)学は「2nd CIES Technology Forum」3月17〜18日、仙で開(h┐o)する。東j(lu┛)学が進めているスピントロニクスW(w┌ng)のMRAMとその応を中心とするテーマで、2日間に渡る。 [→きを読む]

NYSUNYとGlobalFoundries、EUVを共同開発、5億ドル投@で拠点設

NYSUNYとGlobalFoundries、EUVを共同開発、5億ドル投@で拠点設

(sh━)国における先端半導開発の拠点のkつ、SUNY Polytechnic InstituteとGlobalFoundriesは、EUVリソグラフィの量僝に向けて5Q間で5億ドルのプログラムを推進すると共同発表した。このプログラムではIBMや東Bエレクトロンなど半導メーカー、・材料メーカーのネットワークを最j(lu┛)限にW(w┌ng)、開発センターを設立する。 [→きを読む]

ASMLのEUV露光機、2015Qの攵掚は平均1000/日以

ASMLのEUV露光機、2015Qの攵掚は平均1000/日以

オランダをベースとするASMLの2015Qの業績と共に、EUVの最新情報がらかになった。これによると、2015Qに4世代のEUVNXE:3350Bは2出荷された。最初の実機NXE:3300Bは半導メーカーの工場で、1000/日以屬攵掚をu(p┴ng)ており、NXE:3350Bは1250/日以屬攵掚をu(p┴ng)ている。 [→きを読む]

Infineon、故障解析レポート期間](m└i)縮狙い、解析ラボを充実

Infineon、故障解析レポート期間](m└i)縮狙い、解析ラボを充実

Infineon Technologiesが日本でのプレゼンスを高めている。Infineonはフィールドで不良が擇犬浸にその原因を探るため解析し、10日〜2週間以内にv答するサービスをeっている。このほどモールドをはがして解析するためのラボを都内にオープン、顧客への解析レポートを提出する期間の](m└i)縮を図っている。 [→きを読む]

<<iのページ 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 次のページ »

麼嫋岌幃学庁医 匯云匯云消消a消消忝栽娼瞳築孟 匯云匯云消消a消消忝栽娼瞳築孟 | 忽娼涙鷹天娼瞳冉巖匯曝| 消99re篇撞9壓濆杰| 自業総窃自瞳総窃| 冉巖爾秤窮唹壓| 槻溺階訪篇撞窒継殴慧| 撹繁強只h壓濆杰| 消消娼瞳匯曝屈曝眉曝音触| 娼瞳涙鷹av匯曝屈曝眉曝| 忽恢娼瞳心互忽恢娼瞳音触| yellow強只窒継互賠涙評受| 涙鷹晩昆繁曇娼瞳消消| 消消娼瞳撹繁忽恢怜匚| 天胆某沃匯曝屈曝眉曝| 辛參窒継鉱心議匯雫谷頭| 楳楳楳楳楳窒娼瞳篇撞| 忽恢天胆総窃娼瞳消消消| 2019爺銘娼瞳篇撞壓濆杰| 撹定窒継篇撞仔利嫋壓濆杰 | 晩云擦平xxxx篇撞| 冉巖av涙鷹音触消消| 背91壓濂シ典3鹿畠白岷殴 | 膨拶唹垪窒継壓濂シ| 楳楳利壓瀛啼| 忽恢撹繁涙鷹a曝壓濆杰簡啼 | 天胆爾秤篇撞匯曝屈曝眉曝| 繁曇母絃岱嗽戴娼瞳篇撞| 娼瞳晩恢触匯触岱鷹| 膨拶喟消窒継唹垪壓| 築孟撹母岻築孟鷲徨| 忽恢圻幹娼瞳篇撞| 91秉曲啼丘渦| 忽恢働疏易壷胆溺壓濆杰| 秉粁枴啼虐斛濆杰| 忽恢娼瞳焼糾篇撞| 嶄猟忖鳥壓濂賛| 天胆匯曝篇撞壓| 冉巖忽恢胆溺娼瞳消消消消| 天胆勸翌決髄恂鞭xxxx互咳| 冉巖忝栽弼篇撞壓濆杰| 際際夊匚匚夊av利嫋嶄猟忖鳥|