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NXP、ON Semiが�A収を完了、��Tを語る

2015年12月11日｜�業分析

日本法人を�eつ、二つの外�@�U半導��メーカーが仕�Xけた企業�A収が完了し、それぞれNXP SemiconductorsとON Semiconductorの日本法人が�A収後の新�擺覿��(sh┫)針について語った。ただし、共に細�陲砲弔い討龍┻弔�泙製�錣辰討い覆い燭�、これから始まる。 [→�きを読む]

IMEC、「日本はIoTの進�tに�L(f┘ng)かせない国」

2015年12月 1日｜�業分析

「これからのIoTは日本にとって�_要な分野。しかし、IoTに�㌫廚淵謄�離蹈検爾�sれた�\術だけではない」。こう語るのは、ベルギーの研�|開発機関IMECのCEOであるLuc Van den Hove��(図1)。IoTシステムは、�sれた�\術の端�から、演�Q不可�L(f┘ng)なゲートウェイを経てクラウド、ビッグデータ解析、サービス提供という�l富な�\術で構成されている。 [→�きを読む]

Industry 4.0で先行する半導��攵�ステムの会議AEC/APC Sympo 2015

2015年9月 9日｜会議報告（プレビュー）

半導��]��・プロセスの�O動��・最適化を通じて、よりインテリジェントで高効率な�攵�ステムの構築を議�bするAEC（Advanced Equipment Control）/APC（Advanced Process Control）Symposium Asia 2015が11月11日、東�B�h代田区の学術総合センターで開�される。半導��]分野は、��]条�Pを予め��するフ��璽疋侫�錙璽錨�聞佑┐魴eち、Industry 4.0を先行してきた。 [→�きを読む]

実�性最優先のフレキシブルエレクトロニクスを�擇濬个�Holst Centre

2015年7月22日｜�業分析

実�的ではない�~機トランジスタでLSIを作るのではなく、Si CMOSLSIを使ったフレキシブルエレクトロニクスが実�的になってきた。研�|開発センターでさえ、実�化を念頭に�く。ベルギーのIMECとオランダの研�|機関TNOが共同で設立した研�|所Holst Centre (図1)がフレキシブルデバイスの実�化を進めている。 [→�きを読む]

2015 Symposium on VLSI Technologyを振り返って

2015年7月10日｜会議報告（レビュー）

6月15日～18日の4日間に渡って2015 Symposium on VLSI Technologyが�B都�xのリーガロイヤルホテル�B都にて開�された。このシンポジウムのテクニカルプログラム委�^長である、東�の稲�聡��砲修離魯ぅ薀ぅ箸鬚泙箸瓩討發蕕辰��淵札潺灰鵐檗璽織誑�集室） [→�きを読む]

新材料を�]時間で開発できるコンビナトリアル�}法で�j(lu┛)きな�i進

2015年7月 1日｜�\術分析（��]・検�h��）

コンビナトリアルと�}ばれる�}法を使って新材料を開発するビジネスが��発になってきた。�H元�U材料の薄膜を形成するのに組成を連�的に変え、最適な組成を見出すのに使う（図1）。2007�QにSEMICON Westで�t�した��Intermolecular社の材料組成やプロセス条�Pを変える��(sh┫)式とは違い、薄膜の組成を連�的に変えられる��振��やスパッタリング��を使う。英国のIlika（イリカと発音）社、日本のコメット社を紹介する。 [→�きを読む]

�]チャンネル効果のないIGZO�W(w┌ng)�のMOSトランジスタ

2015年6月10日｜�\術分析（プロセス）

シャープの�]晶ディスプレイの�Q画素にスイッチングトランジスタとして形成されているIGZO（In、Ga、Znの�┣�顱鉾焼��を改良し、リジッドな完��T晶ではなく、アモーファスでもない「柔らかい」�T晶を半導��エネルギー研�|所が開発、半導��LSIに応�するため、�湾ファウンドリのUMCと提携した。 [→�きを読む]

ASMLのEUV量�機、いよいよ始動へ

2015年5月 7日｜�業分析

オランダASML社のEUV（Extreme Ultra-Violet）��がいよいよ量�段階に入った。�盜颪里△觚楜劼�15�のEUV��を納入すると発表した。加えて、2015�Q��1四半期��Q報告において、EUVの�]期的な�画について発表している。ASMLの��Q報告書からEUV�画を読み�Dる。 [→�きを読む]