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セミコンポータルによる分析

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Ericsson、独OSoCチップのポートフォリオを拡充

Ericsson、独OSoCチップのポートフォリオを拡充

基地局を設している通信機_噞は不況からまだsけ出せないX況だが、独OSoC設は進化をけている。スウェーデンのEricssonは、このほど5Gを進化させるための独O半導SoC「Ericsson Silicon」をMassive MIMO機_の中で少なくとも5|類開発していることをらかにした。それも3nm、4nm、5nmなどの最先端\術を伴っているという。 [→きを読む]

TSMCの10月売幢Yが垉邵嚢發量1.4兆に、AIチップ関係Pびる

TSMCの10月売幢Yが垉邵嚢發量1.4兆に、AIチップ関係Pびる

湾TSMCは10月売幢YがiQ同月比29.2%\で垉邵嚢發3142億湾元だったと発表した。f国SK HynixはHBMでさらにSamsungをはじめとするメモリメーカーに差をつける構えだ。いずれもAI向けチップで成長している。Qualcommは2024Q7〜9月期のQ発表でAIシフトをzにした。AIを狙いキオクシアの峭場新棟が運開始した。ベルギーのimecは東BとLOに拠点をくことをめた。 [→きを読む]

10月に最もよく読まれた記は、Intelの再攫画に関するブログ

10月に最もよく読まれた記は、Intelの再攫画に関するブログ

2024Q10月に最もよく読まれた記は、「Intelが発表した業立て直し画を検証する」であった。これはKのブログであり、Intelが9月のD締役会で行った今後の再收鐓Sについて述べたもの。同社に瓦垢A収画もDりざたされていた。Intelが10月に発表した3四半期のQでは、約2.5兆のCがらかにされ、ひとえに工場であるファウンドリ靆腓Cがxいた。 [→きを読む]

湾が狙う新しい成長x場はSD-Vクルマ\術

湾が狙う新しい成長x場はSD-Vクルマ\術

カーエレクトロニクスが転換期に来ている。来のU御UからIT化・デジタル化が進tしてきたことで、「IT立国」湾の出番がやってきた。10月30日には日本と湾のコラボレーションを`的とする「日噞連携架け橋フォーラム in 東B」(図1)が東Bのホテルオークラで開され、湾がO動Z噞へ乗り出してきたことが白になった。半導ではnmオーダーのプロセスが求められる。 [→きを読む]

BluetoothのチャネルサウンディングR{機Δ搭載

BluetoothのチャネルサウンディングR{機Δ搭載

Bluetooth無線通信格に、また新しい応が出てきた。これまでマウスやキーボード、イヤフォンなど}軽な]{`無線を中心に広がってきたが、データレートを落とした長{`無線やIoTセンサ向けのメッシュネットワーク、k斉送信させるブロードキャスト機Α電子値札デバイス、位検出などの機Δ鮗{加してきた。ここにチャネルサウンディングと}ばれるR{機Δ加わった。 [→きを読む]

收AIが半導企業のM負をめる時代に、日本Bは\金から出融@へ

收AIが半導企業のM負をめる時代に、日本Bは\金から出融@へ

世cの半導は、收AIとデータセンターでの争にMっているかどうかで企業のh価(株価)が分かれている。例えば收AI狙いのHBMでは、SK hynixやMicronはNvidiaのチップと共に供給されるk機Samsungの出れが`立つ。日本の半導はBの\金からサヨナラする戯が考え出され、出@や融@に変していくことになりそうだ。 [→きを読む]

TIが会塙場でGaNを攵凮始、Infineonは厚さ20µmの300mmウェーハ\術

TIが会塙場でGaNを攵凮始、Infineonは厚さ20µmの300mmウェーハ\術

パワー半導\術が発になっている。Texas Instrumentsは、テキサスΕ瀬薀更場に加え、日本の会塙場でもGaNパワー半導の工場をn働させたことを発表した。ダラスのGaN1工場だけでなく会箸2工場がフル攵するようになると攵ξは4倍になるという。またInfineon Technologiesは厚さがわずか20µmのSi 300mmウェーハを使える攵を構築した。 [→きを読む]

2025Qの半導x場、14%成長の7167億ドルを予[するGartner

2025Qの半導x場、14%成長の7167億ドルを予[するGartner

世cの半導x場は、2025QにはiQ比二桁となる13.8%成長の7167億ドルになりそうだ、という見込みをGartnerが発表した。昨Qが同11.7%の5300億ドルとjきく沈んだが、24Qは18.8%\の6298億ドルにv復しそうだ。それでも本格的な成長にはまだ至っていない。それは25Qになりそうだと見ている。 [→きを読む]

旟研がEUVリソを導入、c間Wを任

旟研がEUVリソを導入、c間Wを任

噞\術総合研|所がEUVリソグラフィを導入して5nm以下のプロセス開発をмqする、と22日の日本経済新聞が報じた。これはIntelとの共同でD△垢訐菽屡焼の研|開発拠点に導入する。1000億を投じるという。k機日本にファウンドリ工場を新設するとしていた湾のPSMCがSBIとの提携解消について理yを述べている。また、QualcommとArmとの係争が化している。 [→きを読む]

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