��菱電機とルネサステクノロジは、直径13μmと小さな�lフリーはんだボールをインクジェットのような�擬阿�、基���屬坊狙�する�\術を共同で開発し、東�B�kツ橋講堂で開かれた2008�Q国際3次元システム集積会議（International 3D System Integration Conference 2008）で発表した。マスクを使わずに直径13μmのハンダボールを実現できるため、狭ピッチの�Hピンパッケージの試作に使うことができる。 [→��きを読む]
��Intel社は、3次元チップスタック実�△�マルチコアプロセッサシステムのメモリーバンド幅を広げるのに�~効であることを、ASET（��先端電子�\術開発機構）主��のInternational 3D System Integration Conference 2008で��した。東�B�h代田区の�kツ橋講堂で開��された、今�Qの3D-SICは、基調講演を含め28�Pの講演発表と18�Pのポスターセッションがあった。 [→��きを読む]
シリコンチップを3次元に�_ね合わせて、�kつのICパッケージに集積する�\術、3次元SiP�\術が新しいフェーズに入った。TSV（through silicon via）と�}ばれる楉姪填�、それに伴うエッチング、電極穴�mめといったこれまでの���]プロセスに��点が当たっていた3D集積�\術の応��が見え始め、設��や信頼性�h価、テストへとシステム的な広がりを見せてきた。ASET（��先端電子�\術開発機構）が主��したInternational 3D System Integration Conference (3D SIC) 2008においてこういった��向が見えてきた。 [→��きを読む]
�i�h判で、松下電�_�噞の150インチのプラズマディスプレイ(�^真1)や、厚さ0.3mmと薄いソニー11インチ(�^真2)、および27インチの�~機ELテレビなどが�R�`されていた、Display2008では、それらのブースに人だかりはあった。しかし、��来のビデオ映�気篦名錣離謄譽啀��気�ら、立��映�気鯀呂蟒个垢箸い�、2次元-3次元変換�\術にも�Hくの人だかりが見られた。昨�Q10月26日にこのコラムで紹介したSeeReal社の立��映�汽妊�スプレイでは3�`にも渡る長��の�`が出来ていた。 [→��きを読む]
![半導�����]����のB/Bレシオは最�Kの0.73まで低下](/assets_c/900px/bb073_1.png "半導�����]����のB/Bレシオは最�Kの0.73まで低下")
日本��半導�����]����のB/Bレシオ（販売�Yに�瓦垢��p�R�Yの比）が0.73と先月の0.85からが0.12ポイントも��少した。B/Bレシオは3ヵ月の�‘以振僂派修錣気譴真��Cであるため、����に落ちることはない。しかもここ2ヵ月くらいは比較的緩やかな��少を��してきた。しかし、今�vの落ち込みはきつい。 [→��きを読む]
CMOSドライバICの�屬�AlGaAs LEDを搭載したLEDプリントヘッドを、沖デジタルイメージング（Oki Digital Imaging Corp www.odij.co.jp/indexe.html）が月��10〜20万個量��していることを、INC4 （Fourth International Nanotechnology Conference on Communication and Corporation）において��らかにした。 [→��きを読む]
��Intel社のNORフラッシュ�靆腓醗吠�合弁のSTMicroelectronics社のフラッシュメモリー�靆腓�合��して新たにNumonyx社を設立することが��まっていたが、このほどようやく設立にこぎつけ、日本法人ニューモニクス・ジャパン合同会社もほぼ同時に立ち�屬欧�。サブプライムローン問��の影�xで�@金調達が�Mしくなっていたため、��式な設立も��れたが、2008�Q��1四半期内(3月��)には設立するという約�J通りにはなんとかこぎつけることができた。 [→��きを読む]
IBM社と共同開発チームである、チャータードセミコンダクター社、フリースケールセミコンダクター社、インフィニオン・テクノロジーズ社、サムスン電子、STマイクロエレクトロニクス、東��は、共同で開発してきた32nmプロセスがビジネスフェーズに入ったと発表した。�j�}半導��メーカーが同じ32nmプロセスを共同で開発し共通のプロセス基盤（コモンプラットフォーム）を作ることで、�Q社の��識の共�~や、投�@リスクの軽��だけではなく、設��リソース（デザインキットやライブラリ、EDA、DFM）も共同で�W��できるため、素早い量�癉ち�屬�りが可�Δ砲覆�。 [→��きを読む]
![マスク検�h時間の40%�]縮をASETが発表](/assets_c/900px/40aset.png "マスク検�h時間の40%�]縮をASETが発表")
��先端電子�\術開発機構（ASET）のマスクD2I�\術研�|�陲���二�v成果報告会を4月11日に東�Bで開��した。リソグラフィ�\術の中で、マスク設��や�W画、検�h�\術といった開発テーマを平成18�Q度から21�Q度に渡り、研�|しようというもの。今�vの報告会では、�i�Q度すなわち、2008�Q3月に終了した平成19�Q度の仕��について紹介した。 [→��きを読む]
これまで見てきたように、エレクトロニクス・イノベーションのエコシステムができている、ケンブリッジとブリストル地域では、�劜協同が�rんである。ともに�j学があり、ベンチャーが集う莂任發△�。両地域とも、�j学が社会に役立つ応��研�|に��を入れ、社会に�恩気垢襪箸いμ魍笋鬚呂辰�りと�T識した�劜共同プログラムを進めている。 [→��きを読む]
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