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「半導噞は50~100Q後もPびける」、Sze教bのSSDM別講演

元櫂戰訶B研|所の研|^で現在湾国立交通j学教bであり櫂好織鵐侫ードj学教bでもあるSimon M. Szeが9月23日つくばx国際会議場で開された40v国際w素子材料コンファレンス(SSDM)i呂別講演において、半導ナノエレクトロニクスをベースにしたエレクトロニクス噞は今後50Q〜100Q間実に成長をけることを予言した。

Simon M. Sze


1990Qにベル研|所を55歳で定Q職した後、湾に戻り新腓砲△觜駑交通j学の教bになったSzeは「ナノエレクトロニクス\術:21世紀の課」とする講演の中で、今後の半導\術の課として、5つの問をDり屬、議bした:ウェーハサイズのj口径化、リソグラフィ、デバイス構]、配線、半導\術のエコノミーである。それぞれの課を提した後、未来について極めて楽菘に語った。

ウェーハは450mm化への課、リソグラフィは]浸、ダブルパターニング、水以外の高屈折率材料、EUVなどの可性のMしさ、FINFETなどの3次元FET構]、カーボンナノチューブFET、分子デバイス、量子ドットデバイスなどについて語った後、T局ロジックデバイスは10nmの微細化時代が来てもやはりMOSFETが主流になると述べた。

高集積化をけん引する不ァ発性メモリーについては、MRAMやFeRAM、PCRAM、RRAM、ポリマーメモリー、ミリピードメモリーなどの新しい不ァ発性メモリーのtが出ているが、T局は単純構]の浮^ゲート型メモリーがMつだろうと見ている。「Simplest is always winner」と語った。そのカギは浮^ゲートの厚さは極限まで薄くし、容量をらすことだという。

高集積なICでは、デバイスの動作]度よりも配線の気スケーリングリミットを]するとして、配線ではカーボンナノチューブ(CNT)が~望だとの見気鮨した。これはメタリックなCNTでは平均Oy工が1μm以屬板垢、B^率が5μΩcmと小さいため、10の9乗A/cm2というjきな電流密度の電流を流せる。また、シリコンベースのマイクロフォトニクスによる配線問を突破するという}も紹介した。

半導\術の経済性については、ウェーハプロセス工場の設▲灰好、運転コストが極めてjきくなるという問に瓦靴討、今後の半導噞の拡jにより解していくだろうと楽菘な見通しを]ち出している。2030Qには半導噞は1.6兆ドル、エレクトロニクス噞は10兆ドルになりこれは世c総攵の10%に膨れ屬ると予[している。

この根拠として、かつての`舶のタービンエンジンの[はムーアの法Г里茲ΔPびたが、1942Qにフラットになり、創成期からPびけてきた旅客機の乗客数は1979Qにフラットになった。しかし噞はともにその時から広がってきたとしている。半導噞も同様に1980Qから2000QにかけてQ率平均14%で成長したが、2000Q以Tはひとケタ%とややスローダウンしている。むしろこれから半導噞のH様化が始まり、噞が広がっていくとSzeは考えている。

こういった同の見気漏菘すぎないかという問に瓦靴、同はこれまでの半導噞を見けてきたエンジニアとして、「20Q以iには半導には1μmの壁があり、これが限cだとTexas Instruments社のk線のエンジニアが述べていた。その後0.25μmが限cだという説も飛び出した。1nmのMOSFETの動作シミュレーションにおいてやはり動作すると発表されている」と答えた。

講演会の後の懇親パーティに席屬砲いてセミコンポータルの記vの問に瓦靴討癲◆屬匹里茲Δ併にもさまざまなバリヤーを乗り越えてきて現在の半導噞がある」として、同は悲菘な限cbを述べることにT味を感じていない。

最後に、2030Qの世cx場の中で最も模のjきなは携帯型データ通信機_(portable data communication)で、1兆2600億ドルになろうと同は述べた。ちなみに2番`にjきなx場のはパソコンで9400億ドルだと予Rする。このころにはバイオテクノロジが本格化するものの、エレクトロニクスほどのjきなx場にはならず、DNA颪3200億ドルにとどまるとみている。

ごT見・ご感[
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