お金は空から�Tってくることはないが、�\料が�Tって来る発電は3つあり、それは水��と2�|類の�陵枷�電である。�陵枷�電の�kつは半導��を応��したPV（http://m.589173.com/archive/blog/insiders/oowada/post-100.htmlおよびhttp://m.589173.com/archive/blog/insiders/oowada/pv.html）であり、もう�kつは�陵桿Xを��いるSolar Thermal Power 発電である。水��発電は��来発�tしない。�陵桿X発電に挑戦する人々は、�Mの�瑤觚造蠧�本に�T在しないため、我が国では�陵桿X発電を�瑤訖佑�少ない。 [→��きを読む]
変革期を迎えている半導��ビジネスのスマイルカーブがどのように変わっているか、について議�bしよう。かつてメモリービジネスがムーアの法�Г魄�っ張っていた時代は、半導��ビジネスの最も高い価値はチップを���]する微細化�\術にあった。18〜24カ月ごとにトランジスタ数が2倍に�\えるという法�Г��Г辰謄肇薀鵐献好真堯△修譴鮹�成するための微細化�\術が半導��ビジネスをドライブしていた。ところが、、、、、、。 [→��きを読む]
エイサーの総師スタン・シー会長は、TSMCのモーリス・チャン会長と並んで��湾ビジネス�cの英�dとして�瑤蕕譴討い襦�パソコンで世�cナンバー2のメーカーに押し�屬欧織┘ぅ機爾離好織鵝Ε掘鴫馗垢脇�本の半導��業�cではモーリス・チャン会長ほどは�~�@ではないとしても（日本のIT業�cでは�瑤蕕覆でvはいない）、彼が考え出したスマイル曲線あるいはスマイルカーブは�瑤辰討い覿板c人は�Hいと思う。 [→��きを読む]
ASETのマスクD2I成果報告会に出席した。マスク�\術は、微細化に��要なリソグラフィ加工�\術の中の�_要な�\術の�kつである。これまで、光の�S長193nmというArFレーザーを光源にし、�]浸や高NAレンズ、高解�偽\術などを�~使して露光�S長よりもずっと�]い45nmの加工を実現してきた。マスク�屬�ICパターンを�Wく場合も、�S長の�]さを考慮してOPC����を行いながら、パターンを�Wいてきた。 [→��きを読む]
シリコンバレーの今の繁栄がこのまま��くのは幻�[だ、と考える人々が少なからずいると考える。最初にシリコンバレーの実��を再認識するために先ずシリコンバレーに本社を��く�k流企業をいくつか見てみよう。 [→��きを読む]
��4�v国際ナノテクノロジー会議（INC4）に出席した。More MooreやMore than Moore、Beyond CMOSなど、ナノエレクトロニクスと称する分野の会議ではあるが、20�Q�iの国際�w��素子コンファレンスやIEDM（国際電子デバイス会議）などを思い出すような発表が�Hかった。当時は、半導��トランジスタが高�]になればスーパーコンピュータやメインフレームコンピュータができると研�|�vやエンジニアは信じていた。 [→��きを読む]
英国と日本との通商が始まって今�Qで150�Qたつそうだ。今�vの英国��集で、ハイテク地域の集中する代表的な莂任△襦▲吋鵐屮螢奪犬離吋鵐屮螢奪現j学は来�Q創立800�Qを迎え、ブリストル�j学も創立100�Qを迎える。歴史的にはブリストル�j学は�{い。 [→��きを読む]
オートデスクの記�v会見に出て驚いた。�ﾟ啓卍垢郎膿靴�3次元CADやシミュレーション（CAE）�\術について紹介したが、その画�気燭襪筺∪^真ではないかと疑うほどのきれいな試作�Zや人�颪��Wかれている。光のシミュレーションも組み込み、光の陰影などの表現が実にリアルである。CAD�\術はかつての単なる設��図から、ビジュアルな�^真まがいの設���気悗犯��tしている。 [→��きを読む]
�O社開発でずっとやってきた会社が、別のハイテク企業とコラボレーションしたという��例を欧�Δ琶垢い拭Ｄ命��\術の�u�Tな、あるフランス企業はある英国のコンピュータ�\術ベンチャー企業と提携した。そのフランス企業によれば�O分たちでも開発できるが、それでは商��化時期が��れてしまうという。�T果的に、��争企業に負けてしまう。 [→��きを読む]
PVとはPhotovoltaicsの省�S形であって�陵枦澱咾鯀T味する。この�\術も基盤はわれらの愛する半導��である。PVが�jきなブームになって来た。 [→��きを読む]
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