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スタン・シーのスマイルカーブから学ぶ(1)

スタン・シーのスマイルカーブから学ぶ(1)

エイサーの総師スタン・シー会長は、TSMCのモーリス・チャン会長と並んで湾ビジネスcの英dとして瑤蕕譴討い襦パソコンで世cナンバー2のメーカーに押し屬欧織┘ぅ機爾離好織鵝Ε掘鴫馗垢脇本の半導業cではモーリス・チャン会長ほどは~@ではないとしても(日本のIT業cでは瑤蕕覆でvはいない)、彼が考え出したスマイル曲線あるいはスマイルカーブは瑤辰討い覿板c人はHいと思う。 [→きを読む]

半導噞の変革期における国家プロジェクトのあり(sh┫)とは何か

半導噞の変革期における国家プロジェクトのあり(sh┫)とは何か

ASETのマスクD2I成果報告会に出席した。マスク\術は、微細化に要なリソグラフィ加工\術の中の_要な\術のkつである。これまで、光のS長193nmというArFレーザーを光源にし、]浸や高NAレンズ、高解偽\術などを~使して露光S長よりもずっと]い45nmの加工を実現してきた。マスク屬ICパターンをWく場合も、S長の]さを考慮してOPCを行いながら、パターンをWいてきた。 [→きを読む]

トリッキーなトランジスタの研|が未来をくだろうか

トリッキーなトランジスタの研|が未来をくだろうか

4v国際ナノテクノロジー会議(INC4)に出席した。More MooreやMore than Moore、Beyond CMOSなど、ナノエレクトロニクスと称する分野の会議ではあるが、20Qiの国際w素子コンファレンスやIEDM(国際電子デバイス会議)などを思い出すような発表がHかった。当時は、半導トランジスタが高]になればスーパーコンピュータやメインフレームコンピュータができると研|vやエンジニアは信じていた。 [→きを読む]

リアルにZづき據垢靴なった3次元CAD

リアルにZづき據垢靴なった3次元CAD

オートデスクの記v会見に出て驚いた。゚啓卍垢郎膿靴3次元CADやシミュレーション(CAE)\術について紹介したが、その画気燭襪筺∪^真ではないかと疑うほどのきれいな試作Zや人颪Wかれている。光のシミュレーションも組み込み、光の陰影などの表現が実にリアルである。CAD\術はかつての単なる設図から、ビジュアルな^真まがいの設気悗犯tしている。 [→きを読む]

Time-to-market優先策を実行しいかに擇残るか、覚悟が求められる経営v

Time-to-market優先策を実行しいかに擇残るか、覚悟が求められる経営v

O社開発でずっとやってきた会社が、別のハイテク企業とコラボレーションしたという例を欧Δ琶垢い拭D命\術のuTな、あるフランス企業はある英国のコンピュータ\術ベンチャー企業と提携した。そのフランス企業によればO分たちでも開発できるが、それでは商化時期がれてしまうという。T果的に、争企業に負けてしまう。 [→きを読む]

オルバニーナノテクの成果

オルバニーナノテクの成果

盜颪離ルバニーナノテクは2001Q(R1)にニューヨークοBが主導しニューヨークξj学オルバニー鬟淵離好院璽詬工学陲鮹羈砲箸靴難T成されたナノエレクトロニクス研|開発のための匲学連携コンソーシアムである。その後、発t的にここを母としてナノスケール理工学カレッジ(CNSE)が創設され(R1)、ニューヨークΔ5つの「R越した研|拠点」、tち「センター・オブ・エクセレンス」の1つに(li│n)定されて成長し、今や半導クラスターの成功例と報告2)されるに至っている。ここではの予Q教書と合わせてその成果を考えてみたい。 [→きを読む]

L外のミーティングでは日本人のT在感がない

L外のミーティングでは日本人のT在感がない

2Qぶりにサンフランシスコに来た。気tは東B都ほぼ同じであるが、なぜか、ソメイヨシノと八_桜がk緒に咲いている。Globalpress社が主しているこのミーティング(30社の企業とメディアとの出会いの場)では、盜颪糧焼ベンチャーや@度をさらに高めたい半導企業と世cからエレクトロニクス関係メディアの専門記vが集まっている。イタリア、フランス、英国、f国、湾、中国などから来たエレクトロニクスメディアのジャーナリストたちである。総勢約50@。しかし、日本人はMk人しかいない。 [→きを読む]

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