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Appliedと東Bエレクトロンが経営統合へ、なぜライバル同士が接Zしたか

Appliedと東Bエレクトロンが経営統合へ、なぜライバル同士が接Zしたか

Applied Materialsと東Bエレクトロンが2014Q後半を`Yに経営統合すると発表した。両社はリソグラフィ以外の半導]のほとんどすべてをカバーしているが、統合によりAppliedの売り屬72億ドルとTELのそれの54億ドルを単純合Qすると126億ドルとなり、ASMLをsきトップに躍り出ることになる。 [→きを読む]

日本の半導設投@Yはついに7%のシェアに

日本の半導設投@Yはついに7%のシェアに

x場調h会社のIC Insightsは、2013Q峇における世cの半導設投@Yの地域別シェアでは、日本がわずか7%しかなかったことを報告した。最jの地域はアジア諒人里如△修離轡Д△53%をめている。日本の半導はモノづくりをやめるのか。 [→きを読む]

100億ユーロの欧θ焼噞画の貌がらかに

100億ユーロの欧θ焼噞画の貌がらかに

欧Δ半導噞(最Zではナノエレクトロニクス噞と表現することがHい)に100億ユーロ(約1兆3000億)を投@するという画(参考@料1)がらかになった。この画は、Future Horizon社のCEOのMalcolm Pennが450mmウェーハの実情を調h、そのレポートをベースにeち屬った。来日したMalcolm Penn(図1)に、欧画について聞いた。 [→きを読む]

コスト的にもSiにMてるメド、TransphormのGaNパワートランジスタ

コスト的にもSiにMてるメド、TransphormのGaNパワートランジスタ

Si IGBTやパワーMOSFETの性Δ鬯える、SiCやGaNといった高a半導トランジスタが期待されながらjきく成長していけない最jの問はコスト。SiCはSiよりも10倍も高い。Siのパワートランジスタは]プロセスがSiCやGaNに比べて完成しており、来の設△使え、低コストである。化合馮焼はどうやってコストの壁を突破するか、そのkつのアイデアをTransphorm(トランスフォーム)社が提案した。 [→きを読む]

Infineonのパワー半導、新パッケージ\術で差をける

Infineonのパワー半導、新パッケージ\術で差をける

パワー半導にを入れているInfineon Technologiesは、そのプロセス工場で300mmウェーハの攵を始めたが、パッケージに関しても新しいコンセプトを次々と]ち出している。例えば、ボンディングワイヤーを使わずにCuピラーをいて、パワートランジスタとドライバトランジスタのv路を接するというマルチチップパワーパッケージ\術を、7月17〜19日東Bで開されたTechno Frontier2013でo開した。 [→きを読む]

Xilinx、UltraScaleアーキテクチャでj模FPGAの配線、クロック分配を刷新

Xilinx、UltraScaleアーキテクチャでj模FPGAの配線、クロック分配を刷新

Xilinxは、20nmルールのLSIを早くもテープアウトした。デザインルールが20nmと微細化すると、集積できるv路が膨jになるため、アーキテクチャを根本的に見直し、UltraScaleと@けた(図1)。CLB(Configurable Logic Block)周りの配線や、DSPブロック、クロック分配などを最適化した。 [→きを読む]

VL@密がj阪にR&D拠点を設立、人材のpけになるか

VL@密がj阪にR&D拠点を設立、人材のpけになるか

湾のVL@密工業がj阪に研|開発拠点を設立した、と6月1日けの日本経済新聞が報じた。VLは]晶デバイスを開発することが狙いのようだ。スマートフォンやタブレット、テレビなどのタッチパネル]晶ディスプレイが今後も成長すると見ているのだろう。これらとリンクして半導]もv復しつつある。 [→きを読む]

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