GaNデバイス]8インチウェーハ官のMOCVDをj(lu┛)陽日┐発売へ
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LEDのチップC積\j(lu┛)や個数\加に官したり、あるいはチップC積のj(lu┛)きなパワー半導にも使えたりするような、8インチGaNウェーハが入}できるようになる。j(lu┛)陽日┐8インチSiウェーハ屬GaN膜を形成できるMOCVD、モデルU(xi┌n)R26Kを開発、セミコンジャパンでt(j┤)した。 [→きを読む]
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LEDのチップC積\j(lu┛)や個数\加に官したり、あるいはチップC積のj(lu┛)きなパワー半導にも使えたりするような、8インチGaNウェーハが入}できるようになる。j(lu┛)陽日┐8インチSiウェーハ屬GaN膜を形成できるMOCVD、モデルU(xi┌n)R26Kを開発、セミコンジャパンでt(j┤)した。 [→きを読む]
(sh━)アプライドマテリアルズ社は、22nm/20nmノード以Tの微細化プロセスに官した新しい]OptivaおよびOnyxと検h1機|を発表した。Optivaはチップ同士を_ねる3次元IC向けのTSV\術の篳┣祝譴\積にも使える。ウェーハプロセスメーカー、アセンブリメーカー、どちらにも供給できる。 [→きを読む]
(sh━)テクトロニクス社は、周S数を横軸とするスペクトルアナライザ機Δ函∋間を横軸とするオシロスコープの機Δ魴eたせた新型のオシロスコープMDO4000シリーズを発売する。最Zの流行語であるコネクティビティとワイヤレスインターネットという言で代表されるモバイル機_(d│)にはRFv路はL(f┘ng)かせない。このオシロはRFからデジタルまで使える。 [→きを読む]
(sh━)テクトロニクス(Tektronix)社は周S数帯域33GHz、2チャンネルでサンプリング周S数100Gサンプル/秒というハイエンドのリアルタイムオシロスコープを発売した。R定_(d│)はRすべき試料のeつ性をカバーしなければならないため、ただでさえ高性Δ求められるがこのオシロの設にはIBMの高]SiGeバイCMOS\術を使った。 [→きを読む]
アルバックの100%子会社で、XU(ku┛)御\術をコアとするアルバック理工は、a(b┳)度差をW(w┌ng)する3kWクラスの発電機を開発した。a(b┳)度差をW(w┌ng)するもののゼーベック効果のような半導素子を使うのではなく、機械式のv転子に冷の^気圧を加えることでv転子をvしモーターをv転させ発電するという原理だ。工場の排XW(w┌ng)を膿覆任る。 [→きを読む]
無線LANやCDMA(sh┫)式の携帯電B、Bluetooth、などのスペクトラム拡g(sh┫)式の無線通信、LTEや地デジなどのOFDM変調といったデジタル変調(sh┫)式の無線通信が華やかになっているが、これらの(sh┫)式では時間軸での振幅や位相のS形が常かどうか荵,靴燭ぁテクトロニクスはこれまでの振幅に加え位相、周S数をリアルタイムに時間軸で荵,任るシグナルアナライザRSA5000を発売した。 [→きを読む]
セミコンジャパン2010においても、半導の高集積化や高機Σ修砲茲辰謄轡好謄爐離灰好肇瀬Ε鵑鮨泙襪箸いΕ船奪廛罅璽供爾点は変わらない。半導メーカーが常にT識していることはコストダウンである。コストアップをcけるため、テスター分野でもスループットを屬欧襯廛蹇璽屮ードや、450mmの薄いウェーハをХeする軽いフレーム、}軽に実xできるクリーンルームなどもデモされた。 [→きを読む]
12月はじめ幕張で開かれたセミコンジャパン2010では、これまでの微細化k本gからスループットの改や新型クリーンルームなど、H様化する半導プロセスを(j┫)徴するようなt(j┤)にj(lu┛)きな関心が集まった。出t社は昨Qよりも(f┫)少しv復がれてはいるものの、微細化、j(lu┛)口径といったこれまでとの違いがはっきり見える。 [→きを読む]
アルバックが3次元実\術であるTSV(through silicon via)プロセスを穴あけからメタルmめ込みまでターンキーで行う]を開発、セミコンジャパンで発表する。ターンキーソリューションの最j(lu┛)のメリットは、リソグラフィとウェーハ薄型加工を除く工のコストが4割も(f┫)ること。スループットも高くなるとしている。 [→きを読む]
高周SR定_(d│)でかつて定hのあったヒューレット-パッカード社から1999Qスピンオフしたアジレントテクノロジーだが、さらに2006Qスピンオフしたヴェリジー社が高]メモリーのテスターV93000プラットフォームや、53,000本以屬離廛蹇璽屬鮖箸辰1vで試xするテスターV6000メモリー専テスターなど進化させている。 [→きを読む]