ダブルパタ〖ニング脫エッチャ〖、光廬テスタ〖など驢屯步するセミコンJ∈I∷
12奉はじめ穗磨で倡かれたセミコンジャパン2010では、これまでの腮嘿步辦塑齡からスル〖プットの猖簾や糠房クリ〖ンル〖ムなど、驢屯步する染瞥攣プロセスを據魔するような鷗績墑に絡きな簇看が礁まった。叫鷗家は候鉗よりも負警し攙牲が覓れてはいるものの、腮嘿步、絡庚仿といったこれまでとの般いがはっきり斧える。
哭1 セミコンジャパン2010柴眷 叫諾¨SEMI
染瞥攣瀾隴劉彌のトップメ〖カ〖Applied Materials∈AMAT∷家は、これまで2鉗息魯輝眷シェアを橙絡してきたが≈2011鉗は3鉗息魯橙絡を謄回す∽∈アプライドマテリアルズジャパン洛山艱涅舔家墓の畔收虐會∷ことで、20nm駱箕洛のダブルパタ〖ニングの堆辦拉を懼げたエッチャ〖や、WLP∈ウェ〖ハレベルパッケ〖ジング∷に蝗うTSVを裁供するためのエッチャ〖など、糠瀾墑を魯」券山している。この15カ奉で15鹼梧もの糠しいプロセス糠瀾墑劉彌を券山してきた。
その辦つ、芹俐脫の瞥攣をエッチングするCentris Etchを海攙券山したが、晾うプロセスはNANDフラッシュやロジック、DRAMの裁供に澀妥なダブルパタ〖ニング供鎳のエッチングを乖うこと。ArFレ〖ザ〖リソグラフィは、シングルパタ〖ニングが蝗えるのはほぼ40nmくらいまで。それ笆布の腮嘿になると海はダブルパタ〖ニングしか數恕はない。EUVの悸脫步はまだ黎で、22nm笆布の潰恕から瞥掐が幌まると斧られており、まずはコンタクトホ〖ルの妨喇に蝗われるのではないかと咐われている。
ダブルパタ〖ニング禱窖は矢機奶り2攙裁供し、裁供するレジスト升と粗持を染負させる條だから、妥滇される裁供潰恕籃刨は端めて光くなる。このためCD∈クリティカル潰恕∷バラつきは0.8nmであり、これは樂縫靛の1它尸の1のサイズだという。しかも、40nm笆懼のプロセスと孺べると20nm駱のプロセスではパタ〖ニング脫のエッチング攙眶はDRAMやロジックでは10攙笆懼、NANDフラッシュでさえ6攙笆懼納裁される。バラつきが阜しくなると票箕に光いスル〖プットも滇められる。
海攙券山したCentris劉彌は、驕丸の4チャンバ劉彌∈3プロセス技と1プラズマクリ〖ニング技∷から8チャンバ菇喇∈6プロセス技と2プラズマ技∷と借妄チャンバを籠やしスル〖プットを2擒に籠やした。この馮蔡、COO∈コストオブオ〖ナ〖シップ∷は呵絡30%布がったとしている。
哭2 ウェ〖ハ燙柒のエッチレ〖トは堆辦(寶)だが驕丸墑(焊)はM機を閃く
哭3 マイクロロ〖ディングを負らすためパルスでRFもバイアスも票袋させた
さらに、プロセスチャンバには、瞥俐をエッチングできるようにするため、キャパシティブ馮圭ではなく、インダクティブ馮圭のプラズマソ〖スMesaを脫いた。このままだと、ウェ〖ハのエッチレ〖トが票看邊覺にM機の妨にばらついた。そこで海攙、プラズマ券欄コイル脫排暗と、イオンを苞っ磨るためのバイアスをパルス弄に票袋をとりながら裁えることでマイクロロ〖ディングによるバラつきを娃え、ほぼフラットなエッチレ〖トを評ることに喇根した。さらにガスの暗蝸のバラつきも娃えるため、ガス暗を撅に極瓢弄にキャリブレ〖トした。これによって堆辦なエッチレ〖トが悸附された。すでに、糠憚を崔む圭紛5家の杠狄を懲評したという。
欄ウェ〖ハ懼の2nmの風促を囪弧できる劉彌
欄のウェ〖ハの山燙、微燙とエッジ燒奪の腮井な風促を囪弧できる浮漢劉彌を、フランスのベンチャ〖、アルタテックセミコンダクタ∈Altatech Semiconductor∷家が倡券、セミコンジャパンにおいてその拒嘿を湯らかにした。パタ〖ニングされていない獨燙ウェ〖ハ懼にある謄に斧えない2nm鎳刨の風促を浮叫できるうえに、スル〖プットは100綏/箕粗と光い。
これまで、山燙にパタ〖ン裁供されていない欄のウェ〖ハを浮漢するには、各池覆腮獨と排灰覆腮獨∈SEM∷の尉數で斧なければ2nmという腮嘿な風促を浮叫できなかった。各池覆腮獨で絡花悄な撾拌を浮叫し、SEMで賴澄に囪弧する。このため、浮漢箕粗がかかっていた。海攙の數恕は1攙で貉みしかもスル〖プットはけた般いに玲い。
フランスのSTマイクロエレクトロニクスのR&Dセンタ〖に奪いグルノ〖ブル輝に2004鉗に肋惟されたアルタテックは、潑檢なパタ〖ンジェネレ〖タを奶して球咖各をウェ〖ハに碰て、瓤紀各を浮叫する。山燙にわずかな風促があると、憚摟賴しいパタ〖ンジェネレ〖タのパタ〖ンが夏み疤陵がずれるため、風促として千急できる。それを茶嚨借妄で≈斧える步∽する。
哭4 士貿な燙懼の風促を浮叫するAltaSightの付妄
パタ〖ンジェネレ〖タのパタ〖ンピッチはプログラムできるが、浮叫炊刨には簇犯せず、むしろ各の乖烯の墓さに簇犯すると、票家家墓のジャンリュックˇデルカ〖リ∈Jean-Luc Delcarri∷會は咐う。瓤紀各を浮叫し、それを罷蹋のあるトポロジ〖として閃くためにはソフトウエアアルゴリズムがカギとなる。
この數恕だと、ウェ〖ハ山燙でも微燙でも尉燙から各を碰て浮叫達を蝗えば、票箕に囪弧できる。しかも、譬湯なガラスマスクや、パタ〖ニング漣のマスクブランクス、SOIやサファイヤ答饒も浮漢できるとデルカ〖リ會は咐う。さらに、ウェ〖ハ柒嬸にこの鎳刨の絡きさの風促があってもその風促の夏みが山燙にまで茫していれば、囪弧できるとしている。
