中国の8インチライン\加へ

世cの半導噞の進化は、kつはプロセスの微細化であり、もうkつはウェハサイズの\jである。現在、世cは12 インチ、65nm 時代に突入している中で、中国のIC ]はまだ初期段階に里泙辰討い襦 [→きを読む]
世cの半導噞の進化は、kつはプロセスの微細化であり、もうkつはウェハサイズの\jである。現在、世cは12 インチ、65nm 時代に突入している中で、中国のIC ]はまだ初期段階に里泙辰討い襦 [→きを読む]
2007 Qの中国半導x場Q会で、中国半導噞協会は2006 Q度の中国IC 設企業、ウェハ]メーカー、パッケージングとテスト業vのトップ10 社を発表した。 [→きを読む]
グローバルに瓦靴寅れをDる日本企業のプライシング実施 今後半導業cがW益ある成長の達成のためには、コストの削だけでは維eできず、プライシング(価格け)へのDり組みが_要となる。プライシングの菘世ら、世cの半導企業のマネージメントがプライシングにどのような認識をもって戦Sのk環としているか、プライシングにDり組んでいるかについて、アクセンチュアが調hT果を発表した。 [→きを読む]
Hynix、サムスン電子に肉、出荷数では位に 2007QのQ1のDRAMx場は、Hynixが`覚しい成長を~げたことがiSupply社調hで発表された。同社の売峭發蓮i期比4.1%\、iQ同期比126%\の21.5億ドルと、位のサムスン電子の、i期比15.9%、iQ同期比40%\の25.2億ドルに肉する勢いとなった。金Yベースでのx場シェアは、サムスン電子が26.1%、Hynixが22.2%となった。 [→きを読む]
2010Qには23.5億ドル模へ 2010Qの半導IP(Intellectual Property) x場は、半導x場あるいはシリコン・デバイスのコア・プラットフォーム(シリコン・デバイスの中核となる霾)のx場を越える早さで]に成長し、売峭23 .5億ドルに達するとの予Rが、エレクトロニクス噞cのシンクタンクであるジェイスター株式会社から発表された。 [→きを読む]
櫃1.0 2007Q3月の半導]x場の3ヶ月平均BBレシオは、日本は1.03、は1.00となった。日本の3ヶ月平均BBレシオは、i月の1.31からjきく下Tした。は、12月以来、ほぼ同水で推,靴討い襦 [→きを読む]
−iQ比1.5%の552.3億ドル、売峭發脇3.2%予[(Dataquest)− 2007Qの半導投@Y(CAPEX)は、2006Q12月予[より下巨Tがなされ、iQ比1.5%552.3億ドルなるとの発表がGartner Dataquest社から発表された。半導x場は、同3.2%の406.3億ドルとなった。同社が2006Q12月時点で発表した予Rでは、2007Qの半導投@Yは、iQ比1.0%\の556.2億ドル、半導x場が同0.7%の420.7億ドルとなっていた。 [→きを読む]
半導]、FPDがけん引役 湾の新腑汽ぅ┘鵐好僉璽の2007Qk四半期(1月〜3月)の輸出Yは、1,359.6億ドル(約41.2億ドル)と、iQ同期比2.5%\となった。 [→きを読む]
−2012Qの異菊嚇泥侫ルム世cx場予R 1,400億 2006Q比47%\に− 富士経済は、先端材料を中心に成長をける世cの半導噞のプロセス材料について調hを行った。そのT果を調h報告書「2007Q 半導材料x場の貌」にまとめた。この報告書は、最先端の世c半導材料x場のi工および後工の主要材料58`をDり屬欧瞳Q|素材別、地域別などあらゆる角度から分析して開発のマーケティング戦Sを立案するためのデータを提供する。 [→きを読む]
デュークj学から報告書発行 デュークj学のPratエンジニアリングスクールから『先入茲涙o破:中国とインドのより深い考察(Seeing through Preconceptions: A Deeper Look at China and India)』という報告書が出された。盜颪離┘鵐献縫不Bに瓦垢諷e惧が要以屬頬弔蕕鵑如▲ぅ鵐鼻中国のリソースへの期待が埔される昨今、数値にとらわれることなく、実を分析することへの警がなされた。 [→きを読む]
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