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Intelマレーシア見学記(4):後工工場にはベールに包まれた研|開発靆腓!

Intelマレーシア見学記(4):後工工場にはベールに包まれた研|開発靆腓!

世c最j級の半導後工工場であるIntelマレーシア工場(同国ペナンおよびクリム)のクリーンルームで行われている後工での作業の様子を垉3vにわたり^真で紹介してきたが、今vは、同工場のベールに包まれた研|開発靆腓任△襦Design & Development Lab」を紹介しよう。 [→きを読む]

盜駭Bの新たな半導輸出U、これからPびるAI、x場&中国の反応

盜駭Bの新たな半導輸出U、これからPびるAI、x場&中国の反応

昨Q10月にBiden権が発表した半導輸出Uのsけ穴をmめることを狙って、新たなUが曜17日に発表されている。により高度な人工(AI)半導の中国への販売を抑Uするためとされている。AI半導x場を席巻するNvidiaのなどが念頭にかれている。このところの中国・Huaweiの最新スマホ搭載の先端半導も関係すると思われるが、半導]を含めたUの見気箸覆辰討い襦C羚颪砲箸匹泙蕕此盜颪ら見ての懸念国も該Uについて言及されている。k機▲咼献優Cでの影xについて、半導関連メーカーからの率直なT見を聞く配慮もされている。国際情勢のリスク要因が\えて高まる中、盜颪籠洩噌颪魔}びXけてTJ啣修鮨泙屬如中核となる半導を巡るU絡みの動きがく可性をwんでいる。 [→きを読む]

f国企業の中国工場への導入U緩和;メモリx況、PCx場f]ち模様

f国企業の中国工場への導入U緩和;メモリx況、PCx場f]ち模様

歟翆Coそして半導x況低迷に戮錣豕ながいているが、U緩和そしてx場f]ちという久々のキーワードを見い出している。盜駭Bの潅羚馮焼関連Uが締まるkの中、ビジネスCはじめ後に引けない訴えをpけてか、f国のSamsungおよびSK Hynixの中国における工場への半導]導入について別な}きがこのほど免除されている。湾のTSMCについても同様の免除措が見込まれる模様である。次に、半導x場関連では引きき落ち込み模様から脱せない内容がいているが、Samsungの四半期業績およびパソコン出荷四半期データなどにf]ちの見気相次いであらわされてきている。確かかどうかは、今後あらわれるデータにd次R`せざるをuないが、長いトンネルを経てるさが見えてきた感じ気任呂△襦 [→きを読む]

12月発売予定のIntel Core Ultraプロセッサ組立・テスト現場を見てきた!

12月発売予定のIntel Core Ultraプロセッサ組立・テスト現場を見てきた!

Intelが9月19日に発表した、AI機ε觝椶離ライアントPC向けプロセッサであるCore Ultra Processorの後工は、同社のマレーシア工場で行われており、そのクリーンルーム内で作業の様子がk陲PC関連メディアにo開された。ダイシングとソート(別検h)までの様子はiv紹介したので(参考@料1)、今vは、ペナンにある「Penang Assembly and Test」(PGAT)靆腓嚢圓錣譴討い觚綛後半のアセンブリと最終テストを紹介しよう。 [→きを読む]

8月半導販売高、6ヶ月連i月比\:潅U1Q、盜顱湾の動きから

8月半導販売高、6ヶ月連i月比\:潅U1Q、盜顱湾の動きから

盜顱Semiconductor Industry Association(SIA)から月次世c半導販売高の発表が行われ、この8月について$44.04 billionで、i月比1.9%\と小幅ながら6ヶ月連i月比\加で戻す流れがくk機iQ同月比も6.8%と昨Qもすでに少の流れとあって、少幅をk桁にらしている。本格的な勢いのv復待ちのX況がいている。次に、直Zの盜颪潅翦焼Uが行われたのが2022Q10月7日のことで1Qになるが、Uの効果は屬っているのかというk機中国での販売動のやはりqげといった反応があらわされて、新たな}立ての要がeわれてきている。また、湾の企業が中国の半導工場をмqしているとのが表C化、湾Bが調hに入るとしている。新たな段階を迎えそうな現下の動きを{っている。 [→きを読む]

ラピダス、国内初のj型ファンドリ工場!〜建築C積が東Bドーム1.15倍〜

ラピダス、国内初のj型ファンドリ工場!〜建築C積が東Bドーム1.15倍〜

ニッポン半導の国家戦Sカンパニーともいうべきラピダスは、いよいよ本格的にテイクオフの時を迎えた。LOh歳xの地100万m2に建設される新工場は、1棟`IIM-1の建築C積は5万4000m2であり、東Bドーム1.15倍の広さに匹發垢襪里澄2025Qの試作ラインn働に向け、工場建設はピッチで進められる見通しだ。 [→きを読む]

盜潅U最終ガードレールのインパクト:Huaweiの新たなUvcアプローチ

盜潅U最終ガードレールのインパクト:Huaweiの新たなUvcアプローチ

盜饐省がこのほど、CHIPS and Science Actによる半導メーカーへの\金供給に向けた国家W保障ガードレールの最終定をo表、攵ξU限および\術協U限のjきく2つがあらわされている。f国のSamsungおよびSK Hynixの中国でのメモリ半導攵について、このU限では実的に\炰可Δ箸いκ雑な反応が見られている。次に、スマホMate 60 Proでの先端半導がいろいろ莟Rを}んでいるHuaweiについて、創業vはじめトップからのコメント&メッセージがあらわされて、盜颪Uをvcする中で模索する同社のアプローチ関連の記が見えてきている。O己完Tを`指す中国の半導関連業cの動きが、半導設から]に拡がっていく様相もうかがえている。 [→きを読む]

Intel最jのマレーシア後工工場のクリーンルームに入ってきた!

Intel最jのマレーシア後工工場のクリーンルームに入ってきた!

マレーシアにあるIntel最jの後工工場のクリーンルームにバニースーツ(無塵衣)をて入って見学してきた。無塵衣のレベルは、工によってi工と同じ最も厳しい完△量疑舒畩レベルからガウンまで工ごとに細かくわかれていた。今vは、シリコンウェーハをダイに切り出しダイXでテストしテープに封入するまでのアセンブリ工のi段階を^真で紹介しよう。 [→きを読む]

インテルのAIはじめ最先端推進アプローチ;盜U下での中国のO己完T開発

インテルのAIはじめ最先端推進アプローチ;盜U下での中国のO己完T開発

Intel Innovation 2023(9月19−20日:San Jose)開などインテルからの最先端のDり組みには何と言ってもR`、PCへのAIの導入、そしてそれに向けたAIベースのニューラル・プロセッシング・ユニット(NPU)搭載"Meteor Lake"プロセッサ、さらに世c初のUCIe(Universal Chiplet Interconnect Express)接チップレットベース・プロセッサなど、以下Dり出している。次に、中国・Huaweiのスマホ、Mate60 Proにおける7-nm半導とされるプロセッサが如何に開発されたか、関心が集まるとともに、盜颪潅羚駘⊇Uのk層の締めつけの可性が高まっている。中国では国の使が求められるとともに、国内O己完Tの半導開発に向けた動きが見られている。ともに業cの今後の景茲砲匹Ρ惇xしていくか、`が`せないt開である。 [→きを読む]

中国半導、28/45nmプロセスでシェア堡梢瑤悄30Qまでに14兆も投入

中国半導、28/45nmプロセスでシェア堡梢瑤悄30Qまでに14兆も投入

中国半導噞に黄色信、iっているとHくの人が指~している。中国企業およびBUは、半導分野に開発および量を含めて、なんと16兆を投入してきたのである。そのT果として、中国の攵シェアは日本にほぼ並びかけたという見気盻个討い襪、確な発表はされていないので、いかんせん推定レベルに里泙辰討い襦編集R1)。 [→きを読む]

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