それでもストレージデバイスは成長しける―SPIフォーラム3月22日開

スマートフォンやタブレットなどの携帯機_が今Qはjきく成長すると誰もが予[している。k、コンピュータの世cはクラウド化が進行しており、携帯機_の性Δ箋Δ良夬B霾をクラウドがうと見られている。しかし、だからといってストレージデバイスが要らなくなるというlではしてない。なぜ携帯機_にストレージが今後も使われるか。 その答えを3月22日開のSPIフォーラムで見出せるだろう。(参考@料1) [→きを読む]
スマートフォンやタブレットなどの携帯機_が今Qはjきく成長すると誰もが予[している。k、コンピュータの世cはクラウド化が進行しており、携帯機_の性Δ箋Δ良夬B霾をクラウドがうと見られている。しかし、だからといってストレージデバイスが要らなくなるというlではしてない。なぜ携帯機_にストレージが今後も使われるか。 その答えを3月22日開のSPIフォーラムで見出せるだろう。(参考@料1) [→きを読む]
「IBMがかつて世cNO.1の半導メーカーであったことを瑤訖佑、いまやさすがに少なくなった。そしてまた、PCはIBMが擇濬个靴燭發里世箸いΔ海箸魍个┐討い訖佑發曚箸鵑匹い覆い世蹐。」深いため息をついてこう語るのは、いまや半導アナリストとして国内最古参のキャリアをeつ南川(アイサプライ・ジャパン副社長)である。 [→きを読む]
\術コンサルタントの仕のk環として、共同研|のマッチングを`的にj}企業の研|靆陲鯣爾辰鴇噞\術総合研|所を訪問したとき、数々の優れた研|成果をあげているグループリーダーから聞いたBである。彼が研|成果をウェブ屬波表するとk番先に飛んでくるのがf国の企業だという。k、日本企業からの]い呂曚箸鵑匹覆、垉遒き合いのあった企業をvってtに\術紹介を行っても、ほとんど反応がないという。このBを聞いて昨今の日本企業の元気のなさに改めてe機感をeった。 [→きを読む]
身Zにもガソリン価格の峺がTりかかってきているが、 変の要因をH々wみながらのグローバルx場のt開がいている。優位なビジネス争確立を図るBig Playersの愾遒瞭阿のなか、半導\術のオリンピック、2011 ISSCCからは、テーマが"Electronics for Healthy Living"となっており、高齢化、新興経済圏拡jが進んでいるグローバルx場の潮流に合わせた\術の切}磨をに感じている。 [→きを読む]
2011Qの半導景気はどうなるか。この答えを求めて1月からさまざまなx場調h会社をD材し、その見通しをまとめた。このT果を、「セミコンポータル エグゼクティブサマリーレポート February 2011」に執筆した。この本はウェッブ情報を主としているセミコンポータルから発行する唯kのLである。 [→きを読む]
情報端機_x場でBとなっているスマートフォンとタブレットPCが]にx場浸透する背景をiv(参考@料1)にき分析し、さらに今後、携帯情報端機_のx場浸透をjきくサポートすると考えられる接触給電についても考察する。盜颯轡好灰轡好謄爛瑳劼行った2010〜2015Qの6Q間に渡るインターネットトラフィックの予Rを紹介したivの@料の中で、最も成長率が最も高いモバイルデータトラフィックについて、今vはその詳細を分析する。 [→きを読む]
例のMobile World Congress(Barcelona, Spain)から、次には2011 IEEE International Solid-State Circuits Conference(ISSCC)(San Francisco)を呂┐襪海離織ぅ潺鵐阿、ハイテク業cが次の優位なグローバル争の構築に向けて虎qq、Xく\えるということか、世cを引っ張るj}Q社からの戦S的な発表、~け引きが相次いでいる感じ気ある時を同じくしたObamaj統襪離ぅ鵐謄觜場訪問が、今Qはさらに拍Zをかけている。 [→きを読む]
盜、ラスベガスでQ初に今Qも華やかにコンシューマエレクトロニクスショー(以下 CES とS称)が開かれた。このt会の模はjきく今Qも約12万人が参加した。この模がいかにjきいか?セミコンジャパンと比べられる。SEMIの広報によればピークだったセミコンジャパン2000Qと等しい人数なのだ。 [→きを読む]
今vが3Qぶり3v`となるMobile World Congressに参加するため、成田に来た。スペインのバルセロナで開されるこのt会は世c最jの携帯機_のショーである。ここには携帯電Bメーカーや通信キャリヤだけではなく、携帯向け半導チップメーカー、ファブレス半導メーカー、IDM、さらにはメーカー、コンテンツサービスベンダー、ソフトウエアベンダーなど携帯機_に関連するあらゆる職|が集まる。 [→きを読む]
四v`の「風を読む」は、「シリコンウェーハ出荷C積」のx場動向についてである。今v、GDPとシリコンウェーハ出荷C積x場との数学的相関関係、およびこの数学的相関関係をWしたシリコンウェーハ出荷C積に瓦垢詬襲R}法、さらに半導x場とシリコンウェーハ出荷C積との数学的相関関係を紹介する。 [→きを読む]
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