�O社開発だけで�M�vになれる時代は終わった。設��だけのファブレス半導��とファウンドリの関係だけではなく、半導��メーカーとシステムメーカーの関係、ファブレス半導��とEDAベンダーの関係や、ファウンドリとEDAベンダーとの関係など、さまざまな半導��関係企業がビジネスの��完関係によりウィン-ウィンの関係を作る動きが��発になっているが、EDAベンダー同士の関係にもそのような��完関係が出てきた。 [→��きを読む]
SIA（�殀焼���工業会）が発表した2009�Qの世�cの半導��売り�屬欧�2263億ドルと�i�Q比で9%��になった。これは、当初の予�[よりもはるかに良い�妓�で�v復しており、11月のWSTSは2009�Qの半導���x場は11.4%��と予�[していた。わずか2ヵ月で���i�Q比率が�kケタ��に縮まったということは予�[以�屬��v復が早く進んでいることを��している。 [→��きを読む]
�Z載��電子機�_のソフトウエアを�Y��化するための国内団��JASPARが、2007�Qから2009�Qまでの��動報告を2月4日に行った。もともとJASPARは欧�Δ隣Z載��ECUに搭載する組み込みソフトウエアの�Y��化団��AUTOSARが開発したプラットフォーム（OS：operating systemやネットワーク��のミドルウエア）を日本風にアレンジしてきた。AUTOSARにはない信頼性の�{加やコード効率の向�屬鮨覆瓩討�たことを成果としてあげた。 [→��きを読む]
不況でも研�|開発�Jを落とさなかった�櫂▲淵蹈亜Ε妊丱ぅ札困�2010�Qは��めに転じる。2009�Q10月��に2009�Q会���Q度を終えたアナデバは、�i�Q同期比22%��という不況のどん�fに落とされながらも�W益率14%を確保し、高性�Ε▲淵蹈或��ｽ萢�システムのソリューションを提供することで、�x場�耀uを�{求する。�\術と�x場を両�茲箸靴神鐓Sだ。 [→��きを読む]
世�cの半導��ファウンドリ企業のランキングを�歡��h会社のIC Insightsが発表した。トップは相変わらず��湾のTSMCで、2位も��湾のUMCである。TSMCの販売�Yは89億8900万ドルと��トツで、2位UMCの28億1500万ドルを�jきく引き�`している。もはやTSMCはファウンドリのマイクロソフトになったといえるだろう。 [→��きを読む]
![12月の日本��半導�����]����、順調な�v復を��し、900億��の�p�R�Yまで戻す](/assets_c/900px/100129-seajmarket.png "12月の日本��半導�����]����、順調な�v復を��し、900億��の�p�R�Yまで戻す")
日本��半導�����]����の�p�Rが順調に�Pびている。2009�Q12月には899億��という�p�R�Yまで�v復した。これはSEAJ（日本半導�����]����協会）が発表した日本��半導�����]����の�p�R�Yと販売�Yの数�Cである。�p�R�Y、販売�Yとも3ヵ月の�‘以振僂靴�B/Bレシオ（販売�Yに�瓦垢��p�R�Yの比）は1.30となっている。 [→��きを読む]
クルマが��国地図を書くためのペンになる。クルマの｢走る｣、｢曲がる｣、｢�Vまる｣という��つの基本機�Δ法△發��kつ｢つながる｣という機�Δ�基本機�Δ箸靴銅{加されるとセンターが��てのクルマを管理できる。これからのクルマが電気�O動�Zにせよ、プラグインハイブリッドにせよ、社会の交通インフラと常時接��されるようになる、と��2�v国際カーエレクトロニクス�\術�tの基調講演において日���O動�Z、トヨタ�O動�Zが共に述べた。 [→��きを読む]
半導��メーカーが単なるチップの提供だけではなく、モジュールや開発ツールの提供などを含めたソリューションとして半導��ビジネスを拡張している。コンピュータ・通信機メーカーが単なるコンピュータや通信機�_のハードやソフトを売るのではなく、顧客が望むシステムを提案するというソリューションビジネスへと広げてきたやり�気汎韻犬澄��櫂淵轡腑淵襯札潺灰鵐瀬�ターは電源�v路のパワーモジュールと開発ツールを提供し始めた。 [→��きを読む]
�盜颪塁x場調�h会社IC Insightsが2009�Qにおけるファブレス半導��のトップ25社を発表した。それによると、ファブレスのトップ9社が10億ドルを��えるビリオンドルプレイヤーになった。��1位は言わずと�瑤譴��櫂�アルコム。4位のMediaTekを筆頭にして��湾勢の進出が�`立つ。15位以内に��湾勢が5社食い込んでいる。 [→��きを読む]
STマイクロエレクトロニクスが、マルチプル電子ビームリソグラフィを開発するためのCEA-LETIのIMAGINE��画に参加した。CEA-LETIはフランスの半導��研�|所であり、IMAGINE��画は新しい�匲のマルチパートナーの研�|プロジェクト。マスクレスのリソグラフィ�\術開発を�`指す。 [→��きを読む]
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