2nmのマスク瀾侯袋粗を呈檬と沒教するNvidiaのcuLithoとSynopsysのOPC
2nmプロセスでは、EUVといえどもOPC∈各池弄奪儡跟蔡餞賴∷が澀妥になってくる。EUVの13.5nmという僑墓ではパタ〖ンをそのまま裁供できなくなってきたからだ。2nmプロセスだと剩花すぎて活乖壺疙弄なアプロ〖チはもはや蝗えない。紛換怠網脫のリソグラフィの叫戎となる。NvidiaとTSMC、Synopsys、ASMLは、候鉗エコシステムを菇蜜したが∈徊雇獲瘟1∷、TSMCの翁緩ラインに紛換怠リソを瞥掐していることが湯らかになった。
哭1 cuLitho脫のテストパタ〖ンチップ 叫諾¨Nvidia
2nmプロセスは、帽なるGAAトランジスタの瞥掐だけではなく礁姥刨が呈檬と懼がることによって端めて剩花な肋紛になると票箕に、呵井の悸潰恕は11~12nmとEUVの僑墓よりも沒くなるため、90nm箕洛から瞥掐されたOPC輸賴がマスクごとに風かせなくなる。稱マスクに呵努なパタ〖ンを紛換するために、NvidiaのGPUと紛換怠ベ〖スのリソグラフィ∈Computational Lithography∷羹けのライブラリであるcuLithoを網脫することになる。候鉗はこのためにNvidiaとTSMC、Synopsys、ASMLが紛換怠リソのエコシステムを菇蜜した。
TSMCのCEOであるC.C.Wei會は、≈TSMCのプロセス供鎳にGPUベ〖スの紛換システムを寥み掐れるためにNvidiaと定蝸してきたが、その拉墻が光くスル〖プットが絡きく羹懼し、マスク倡券袋粗が沒教、久銳排蝸も絡升に猴負した∽と胳っている∈徊雇獲瘟2)。≈NvidiaのcuLithoをTSMCの欄緩ラインに寥み哈み、染瞥攣の腮嘿步に腳妥なマスク肋紛に寵脫する∽と咐う。またOPCでは、各富の妨にも巴賂するため、ASMLのEUVリソグラフィ劉彌の各富の動さや疤陵などのパタ〖ンも拇臘することになる。
NvidiaのcuLithoをTSMCのラインに瞥掐し、まずテストした馮蔡、妒俐弄なパタ〖ンを評る廬刨が45擒廬くなり、僥と玻の木俐弄なパタ〖ンの≈マンハッタン∽マスクでは60擒も廬くなったという。
さらにマスク瀾侯袋粗を裁廬させるため、NvidiaのcuLithoに悸烙のあるSynopsysのProteusと鈣ぶOPCソフトを琵圭するため、Synopsysとも寥んだ。呵努パタ〖ンの紛換箕粗を峰般いに沒教させることを晾っている。Proteusは、20鉗粗悸烙のあるOPC輸賴ソフトであるが、cuLithoに寥み哈むことでGPUベ〖スの紛換怠リソになり、籃刨や跟唯、マスク輸賴廬刨は絡升に羹懼するだけではなく、輸賴脫のモデル菇蜜も渴み、輸賴したICパタ〖ンと輸賴漣のパタ〖ンでの跟蔡を尸老することもできるようになり、チップ瀾隴プロセスを辦糠するという。
Nvidiaはこの1鉗で、欄喇AIを努脫してcuLithoの擦猛を光めるためにアルゴリズムも倡券してきた。この馮蔡、欄喇AIによって紛換廬刨は擒籠した。欄喇AI[を努脫して各の攙擂を雇胃することで瓤啪マスクや瓤啪ソリュ〖ションもほぼ窗ぺきにできるようになるとしている。ここにさらにProteusのOPC輸賴を裁えることで呵姜弄にマスク侯喇箕粗は2峰廬くなるという。
また、これまでのGPU紛換ではH100瀾墑を蝗ってきたが、經丸はNvidiaのBlackwell GPU∈徊雇獲瘟3∷を蝗うようだ。リソプロセスで海稿も部かボトルネックが叫てきたときに欄喇AIとcuLitho、Proteusで呵努なマスク侯喇が材墻になるため、2nm笆慣のプロセス倡券に銅蝸な紳達になりそうだ。
徊雇獲瘟
1. "TSMC and Synopsys Bring Breakthrough NVIDIA Computational Lithography Platform to Production", Nvidia
2. ≈NvidiaがASML、TSMC、Synopsysと寥み、紛換怠リソで2nmノ〖ドを仆撬へ∽、セミコンポ〖タル (2024/03/24)
3. ≈Nvidia、1名パラメ〖タの欄喇AI羹け糠GPUとAIコンピュ〖タを券山∽、セミコンポ〖タル (2024/03/22)
