キヤノンがMolecular Imprints家を傾箭、ナノインプリント禱窖を掐緘
キヤノンがナノインプリント禱窖のベンチャ〖措度である、勢(shì)Molecular Imprints家を傾箭することで圭罷した。このニュ〖スが泣塑沸貉糠使墨穿に很った2奉14泣に、キヤノンもニュ〖スリリ〖ス∈徊雇獲瘟1∷を萎した。
黎降の垛退泣、泣沸はこのニュ〖スを辦燙トップで帕えた。Molecular Imprints家は、ナノインプリント禱窖を蝗うリソグラフィ劉彌のメ〖カ〖で、腮嘿な染瞥攣だけではなくハ〖ドディスクのパタ〖ニング脫も晾っている(徊雇獲瘟2)。キヤノンのニュ〖スリリ〖スでは、塑鉗2奉5泣をもってMolecular家の息馮灰柴家步について圭罷したと揭べている。
キヤノンは、附哼、KrFエキシマレ〖ザ〖(僑墓248nm)とi俐∈僑墓365nm∷のリソグラフィ劉彌を欄緩ˇ任卿しているが、腮嘿步灤炳は覓れていた。ArF∈僑墓193nm∷レ〖ザ〖を各富とするリソではオランダのASML、ニコンの2家が緘齒けている。キヤノンは腮嘿步レ〖スにおいて忙皖したと蛔われていた。海攙、ナノインプリント劉彌を緘にすることで、票家は浩び腮嘿步レ〖スに徊掐する。
キヤノンのニュ〖スリリ〖スによると、票家は、2004鉗に20nm笆布の腮嘿裁供に羹けたナノインプリント禱窖の甫墊を倡幌したとする。セミコンポ〖タルが2008鉗12奉にMolecular Imprints家の里維を疽拆した∈徊雇獲瘟2∷稿の2009鉗笆慣、ナノインプリント禱窖を脫いた肌坤洛リソグラフィ劉彌の翁緩を謄回して、Molecular家および絡(luò)緘染瞥攣メ〖カ〖と鼎票で倡券に艱り寥んできたという。
肌坤洛のリソグラフィ劉彌として、ASMLがEUV∈僑墓13.5nmのX俐∷溪各劉彌の倡券を渴めており、ニコンは閉炕のArFレ〖ザ〖によるダブルパタ〖ニングを夸渴している。10nm禱窖がEUVかトリプルパタ〖ニングになるのか、まだ馮俠は叫ていない。どちらも、1箕粗あたりに欄緩するウェ〖ハ綏眶、すなわちスル〖プットが你いため、コストが布がらないという嗆みを積つ。
ナノインプリント禱窖は、2008鉗箕爬でのMolecular家の蛔锨が嘲れ、22nmのNANDフラッシュに蝗われていない。翁緩怠瞥掐がやや覓れ丹蹋であり、肌坤洛のリソグラフィ劉彌の鉻輸として呵奪、廈瑪に懼らなくなってきた。かつて、3絡(luò)リソメ〖カ〖の1家であったキヤノンが海攙、Molecular家傾箭を瘋めたことで、この禱窖が肌坤洛腮嘿步禱窖に赦懼してくることになる。
もともと各池怠達(dá)メ〖カ〖であるキヤノンはレンズを評(píng)罷としてきた。ナノインプリント禱窖は、磅湊と票じ付妄でウェ〖ハ山燙に柄鋪を燒けるため、答塑弄にレンズを蝗わない。しかし、キヤノンはレンズを?qū)櫎筏骏幞椁坤堡扦悉胜ⅴぅ螗弗Д氓去抓辚螗郡涫９绲·胜嗓问瞍摔饩}を弓げてきた。リソグラフィ劉彌においても、レンズだけではなく、ステ〖ジの怠菇やロボティクスなどの悸烙がある。これらの禱窖を?qū)櫎工长趣恰⒓±ぢ濂辚絼洡丐魏苹财虔偆幛郡韦扦ⅳ恧Α＠虼预筏郡ぁ?/p>
黎降は、ソニ〖がCMOSセンサ〖を籠緩するというニュ〖スを、泣沸が12泣に鼠じた。350帛邊を抨じ奉緩墻蝸を25%籠やすため、その欄緩橙磨にはルネサスエレクトロニクスから關(guān)掐する尼鉑供眷を碰てる、とする。泣沸は、ソニ〖が尼鉑供眷の傾箭を瘋めた妄統(tǒng)を、アップルから慮殼があったためと鼠じている。アップルは、iPhoneやiPadなどの瀾墑に蝗っているメ〖カ〖嘆を給山しない。アップルに嬸墑を羌掐するサプライヤもアップル羹けを給咐しない。このため、泣沸は≈アップルが丸鉗にも券卿する糠房iPhone羹けに茶嚨センサ〖の丁惦翁を擒籠させるとみられる∽という山附をとっている。
徊雇獲瘟
1. キヤノンによるモレキュラ〖インプリント家の窗鏈灰柴家步について ニュ〖スリリ〖ス、(2014/02/14)
2. ナノインプリントの翁緩步は22nm笆慣のNANDフラッシュ、ハ〖ドディスクから (2008/12/24)
