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AIST Solutions、半導ICのc主化を進めるOpenSUSIを設立

噞\術総合研|所が日本版「半導ICのc主化」プロジェクトを進めていることがわかった。旟研の総責任vである理長の石和}(hu━)(図1)は、旟研が開発した\術を社会実△靴得い涼罎量鬚卜たせようという石改革を任以来進めてきた。2023Q設立したAIST Solutionsは社会実△寮萋頏。2024Q4月には半導ICの開発に向けて「OpenSUSI」を設立した。これこそ半導のc主化を狙った組Eである。

噞\術総合研|所 石和}理長

図1 噞\術総合研|所の理長兼CEOの石和}(hu━)


半導IC\術は微細化がほぼVまっている。最小線幅は12nm度まで来た。高NA EUV(参考@料1)をもってしても10nm度がやっと。これが2nmプロセスノードと称されている。すなわち、3nm、2nmといっても実際の配線幅は12nm、10nmでVまっているのである。実際の∨,函▲廛蹈札好痢璽匹伶}び@は完に乖`しているため、プロセスノードは誤解を}びやすい@称となっている。

3nmや2nmのプロセスノードという先端ICは、配線構]やトランジスタ構]をフルに3次元することで、配線幅と間隔をさほど微細にしなくても集積度、つまり単位C積当たりのトランジスタ数を\やすことができる。これがDTCO(Design Technology Co-Optimization)、あるいはエリアスケーリング、デンシティスケーリングと}ばれる\術だ。配線幅と間隔がほぼ実∨,汎韻犬任△覿\術をレガシープロセスと}んでいるが、配線幅/間隔を見る限り先端プロセスノードのICと比べて、さほどj(lu┛)きな差はない。

ただし、DTCOの要のない\術を仮にレガシープロセスと}ぶことにしてBをけると、4月に設立されたOpenSUSIが扱うのは、マーケットがl富なレガシープロセスの半導であり、ロングテール向けにASIC(アナログやデジタルv路を中心に設されたハードウエアIC)やSoC(CPUなどのプロセッサを中心にソフトウエアも含めたIC)などを開発するためのサポートを行う。

しかも半導ビジネスで_要なマーケティングが弱い日本企業をмqするという役割もeつ。このため実際には、半導ユーザーと共同で仕様を議b、ASICやSoCを設しPoC(実証実x)までをмqする。ASICやSoCは、半導ユーザーがライバル企業と差別化するための半導ICであるため、世cを相}に戦うシステム顧客にはL(f┘ng)かせないコア\術となる。だからこそGoogleやAmazon、Meta、Apple、Nokia、Ericsson、Keysightなどはライバルと差をつけるためにO社設しているのだ。

Googleは、Oらが}配師となり、半導ユーザーの欲しいチップを設するファブレスのefabless社、それを?y┐n)]するファウンドリSkywater社(130nmと90nmプロセス)を紹介するという仕組みを作っている。OpenSUSIはこれとよく瑤浸伝箸澆鮖箸ぁAIST Solutionsがユーザー企業の求めるICの設をмqする。設を依頼するのは、東Bj(lu┛)学のシステムデザイン研|センター(旧VDEC:j(lu┛)模集積システム設教育研|センター)。オープンソースの設環境をeっているからだという。]は国内のレガシー半導を?y┐n)]するファブを使う。旟研の先端半導研|センターが運営する300mmウェーハ処理のクリーンルームも使える。

Googleは、サポートする顧客のICの実現にMPW(Multi-Project Wafer)を使い、複数の顧客のICチップをkつのウェーハで処理している。顧客はICチップをW価で}に入れることができる。東j(lu┛)でもMPWサービスをさらに進め、異なる顧客ではなく異なるIPを集積したMPWウェーハを設してきた実績がある。

日本ではITが極めてれているため、ITを}Xける企業のHくは世cと争せず日本の顧客にサービスを提供するだけにとどまっており、半導ICをO社開発したいという総合電機メーカーはほぼいない。Hくがx販で間に合うと見ている。しかし、これでは日本語ベースのITシステムを日本でも作ったことにすぎず、世cに{いつくだけであり、{い越すことはできない。

k(sh┫)で、世cと争したいという\術をeつスタートアップが出現していることも実である。このようなスタートアップ企業は世cとの差別化に独Oチップが欲しいはず。しかし、2nmや3nmといったプロセスノードは要ない、という顧客は確実にいる。AIST Solutionsはこういった顧客開に乗り出しмqする。OpenSUSIは、「レガシーファブをW(w┌ng)するユーザーとデマンドの発E」をY榜している。

参考@料
1. 「高NA EUVリソグラフィ1(gu┤)をIntelオレゴン工場に導入、組み立てた」、セミコンポータル (2024/04/19)

(2024/04/23)
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