光NA EUVリソグラフィ劉彌媽1規(guī)をIntelオレゴン供眷に瞥掐、寥み惟てた
Intelは1.8nmプロセスノ〖ドに陵碰するIntel 18Aに羹け、オランダASML家瀾の光NAのEUVリソグラフィ劉彌≈TWINSCAN EXE:5000∽∈哭1∷をプロセス倡券凋爬のあるオレゴン供眷に瞥掐した。まずIntel 18Aプロセスノ〖ドから瞥掐し、Intel 14Aノ〖ドへと橙磨していく徒年だ。Intelのファウンドリ禍度嬸が瞥掐しTSMCに納いつき納い臂す紛茶を渴める。
哭1 ASML呵糠の光NA EUV劉彌≈TWINSCAN EXE:5000∽ 叫諾¨ASML
これまでのEUV溪各劉彌としては、2017鉗にNA∈倡庚眶¨Numerical Aperture∷が0.33の媽1坤洛の翁緩怠≈NXE:3400∽と2020鉗に≈NXE:3600∽をIntelは瞥掐してきた。EUV倡券勒扦莢で、Intelのフェロ〖であり、Intel Foundry Logic Technology DevelopmentのLithography , Hardware and SolutionのディレクタであるMark Philips會(huì)∈哭2∷は、EUVのような沒(méi)僑墓の起X俐リソグラフィを27鉗粗倡券してきたという。IntelはEUVの悸烙が20鉗笆懼あると動(dòng)拇する。
哭2 Intelフェロ〖敷、Intel Foundry Logic Technology DevelopmentのLithography , Hardware and SolutionのディレクタMark Philips會(huì)
海攙の糠瀾墑はNA0.55となり、シングル溪各で8nmハ〖フピッチのパタ〖ンを裁供できる。附哼、3nm、2nmノ〖ドといっても悸潰恕は12nm鎳刨のままである。さらにEUVを蝗っても3nmくらいになると、ダブルパタ〖ニング溪各が澀妥になりつつある。NAが0.55となるとシングル溪各が材墻になるため、マスク眶を負(fù)らすことができるようになる、とPhilips會(huì)は胳っている。
附悸にASMLはフルフィ〖ルドで10nmサイズのパタ〖ンを悸附しており、NA0.55の蘋(píng)囤をつけたと票會(huì)は揭べている。ASMLはパ〖トナ〖であるZeissと辦斤に光NA EUV劉彌の各池廢を肋紛したという。
ただ、10nmパタ〖ンをこの媽2坤洛のEUVリソグラフィ劉彌で磊るといってもミッションクリティカルなスイ〖トスポットで光NA劉彌を蝗うことになるだろうとPhilips會(huì)は揭べている。10nmのパタ〖ンとなれば、フォトレジストも10nm笆布に泅くする澀妥がある。レジストと瓦しいパタ〖ンとのアスペクト孺が光くなることを雇えれば、メトロロジ〖禱窖での賴澄な潰恕を盧年する禱窖も腳妥になる。2nmプロセスノ〖ドは、溪各劉彌だけではなく、レジスト、派邵劉彌、附嚨、エッチングを崔めたリソグラフィ另圭蝸が啼われるようになりそうだ。
勢(shì)オレゴン劍ポ〖トランド奪官のヒルズボロ〖にあるIntelのオレゴン供眷では、オランダから鄂廷で光NA EUV劉彌を嚷掐してきており、その屯灰をYouTubeで給倡している∈徊雇獲瘟1∷。オランダで瀾隴しているEUV劉彌を250騰娶に尸豺し、43改のコンテナを策濕漓脫怠に烹很してオランダからシアトル鄂沽まで笨んだ。絡(luò)房トラック20駱尸に尸けて鄂沽からIntelのオレゴン供眷まで嚷掐した。
哭3 改」のモジュ〖ルに尸豺、それぞれをテスト材墻にしてオランダから嚷流したブロックをオレゴンで寥み惟てた 叫諾¨Intel
稱モジュ〖ルはオレゴン供眷柒で寥み惟てた∈哭3∷。それぞれのサブシステムはテスト材墻なモジュ〖ルに尸豺され、それぞれをテストできるようにしている。肩妥なモジュ〖ルとしてはレチクルモジュ〖ル、各池廢モジュ〖ル、ウェ〖ハを烹很するウェ〖ハモジュ〖ル、レ〖ザ〖額瓢劉彌、各富モジュ〖ルなどがある。さらにスル〖プットを懼げるためのTWINSCANステ〖ジ禱窖や、腮嘿裁供に稍材風(fēng)で廄爬考刨を考くするアナモフィックな瓤紀(jì)廢各池モジュ〖ルなどを寥み惟てていく。
徊雇獲瘟
1. "Intel Adds ASML∏s First High NA EUV Tool to Oregon Factory", YouTube
