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3D-NANDフラッシュは96層・4ビット/セルの時代に

東メモリとWestern Digitalは、3D-NAND構]で96層、しかも4ビット/セルというNANDフラッシュメモリを開発(参考@料12)した。1.33Tビットを東は9月からサンプルを提供し、WDはすでにサンプル出荷中である。このメモリは東メモリの四日x工場で共同開発・攵されたもの。

図1 Western Digitalの1.33TビットのNANDフラッシュメモリ 出Z:Western Digital

図1 Western Digitalの1.33TビットのNANDフラッシュメモリ 出Z:Western Digital


これまでのNANDフラッシュは、セル層数では64層が量に入っており、96層の化はSamsungが先行している。同社は96層で3ビット/セルの256Gビットの攵を7月に立ち屬欧拭△伐Δ離┘譽トロニクスメディアであるEE Newsが報じた(参考@料3)。ただし、東/WD組とは違い、来の3ビット/セルだからMしさはく違う。4ビット/セルは、0Vから電源電圧Vccの3.3Vまでを2の4乗、すなわち16分割して4ビットを表現する。これに瓦靴3ビットは8分割(2の3乗)で済むため、比較的容易である。もちろん4ビットの(sh┫)がj(lu┛)容量化できる。

ただし、4ビット分割は、0000を0V、0001を0.2V、0010を0.4Vというように0.2Vという小さな電圧を、マージンを含めて確に検出しなければならない。きわめて確な電圧検出・U(ku┛)御\術が要となるためMしい。これまで2ビット/セル(4分割)、3ビット/セル(8分割)までは比較的~単にできたが、4ビット/セルは開発に時間がかかっていた。

その分、高集積化のためにセルをeに_ねる3D化で集積度を屬欧討た。ただし、32層、64層、96層、と層数を屬欧襪亦い、攵はくなる。スループットが屬らなくなる。このためv路的に分割感度を高めマージンをDるための工夫によって4ビット/セルを開発してきた。

ただし、4ビット/セル\術だけなら、Intel/ Micron組の(sh┫)が開発は早かった。すでにIntel/ Micron組は今Qの5月に4ビット/セルで64層のチップと、3ビット/セルながら96層のチップを開発していた(参考@料4)。

96層で4ビット/セルは今vの東/WD組が初めて開発したというもの。WDは4ビット/セルで96層の1.33Tビット3D-NANDフラッシュを本Q中に量凮始すると述べているが、東は9月崕椶らサンプル出荷し2019Qに量凮始を予定する。このチップを16積層すると2.66Tバイトのメモリが1パッケージで提供できるようになる。

また、Intel/ Micron組は、今Qの初めに両社が独Oにを開発していくと述べたものの、5月には96層で4ビット/セルの3D-NANDを共同で開発すると表している(参考@料4)。さらに7月16日には、3D Xpointメモリも共同で開発し、量妌場であるIMFT(Intel-Micron Flash Technologies)のユタΕ譽す場で攵していく予定だと表した。

3D Xpointメモリは、SCM(ストレージクラスメモリ(主にIBMが}んでいる))である、パーシステントメモリ(Intelがそう}んでいる)に3D Xpointメモリを採することを6月に発表している(参考@料5)。また、3D XpointメモリをSSDにも使っており、NANDフラッシュよりも少し]いSSDという位づけで、3D Xpointメモリを使い分けている。


参考@料
1. QLC\術をいた96層積層プロセスの「BiCS FLASH」の開発について (2018/07/19)
2. Western Digital Begins Sampling 1.33 Terabits, Four-Bits-Per-Cell, 96-Layer 3D NAND (2018/07/19)
3. Samsung ramps production of 96-layer 3D-NAND flash、EE News Europe (2018/07/16)
4. Intel/MicronがNAND関係を再啣宗4ビット/セルの64層を?y┐n)認?/a> 、セミコンポータル (2018/05/23)
5.
Intel、3D-Xpoint\術によるパーシステントメモリを提案、階層構成を見直し 、セミコンポータル (2018/06/01)

(2018/07/20)
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