7nmプロセスのEUVに期待〜セミコンジャパン2016��別インタビュー
石内 秀美��(hu━)、先端ナノプロセス基盤開発センター（EIDEC）代表�D締役社長
2016�Q4月に代表�D締役社長に��任した石内秀美��(hu━)。EIDECは元々EUVのマスク検�h�\術の開発に�Dり組んできた。新社長はこれからどう進めていくのかを聞いた。(動画あり)
元東��の�\術イノベーション���霙垢任△辰神估���(hu━)は、半導��エレクトロニクス�\術に関して�l(shu┴)富な��(m┬ng)識を�eつ。新たに��任したEIDECの進むべき�Oを語っている。（撮影は2016�Q12月）
セミコンジャパン2016��別インタビュー�k覧 (�w称�S、五�臆蚕�)
- 石内 秀美 先端ナノプロセス基盤開発センター 代表�D締役社長
- �Q合 �W(w┌ng)�` 東�Bエレクトロン 代表�D締役社長
- 久保 法晴 日本ナショナルインスツルメンツ テクノカルマーケティングマネージャー
- �R藤 ��(j━ng)�� デバイス&システム・プラットフォーム開発センター 代表�D締役会長
- 南川 �� IHS 主席アナリスト
(2017/01/06)
