10nmの�]浸����からIoT�官�機まで〜セミコンジャパン2015��別インタビュー
�[立 稔和��、株式会社ニコン 常��執行役�^ 半導��������業本�霙�
最先端微細化露光�\術を��実に進めているニコンは、現在量��の最先端の16/14nmノードから10nm、さらには7nmへ��点が�，辰討�ている。マルチパターニングにより達成する�lだが、��合するEUVは導入がのびのびになっている。ArF�]浸露光����を開発してきたニコンは何を訴求するのか、同社半導������トップの�[立常��に聞いた。(動画あり)
時代は、More than Mooreのように微細化を�{求するだけではなく、IoTや200mmのような����への要求も�咾泙辰討い襦�ニコンはIoTへの�官�をどう加えているのか、についても伺った。（撮影は2015�Q12月）
インタビュー �k覧（�w称�S）
- 中�� �T SEMIジャパン 代表
- 東 哲�r 東�Bエレクトロン 代表�D締役会長兼社長（当時）
- �[立 稔和 ニコン 常��執行役�^ 半導��������業本�霙�
- 吉田 ���� アドバンテスト �D締役常��執行役�^ 企画・渉外担当
- 吉�P 晃 ディスコ 専��執行役�^営業本�霙�
- 南�靈Χd/藤野佳�� ��原��作所 営業統括��
- �氛� 浩二 東��セミコンダクター&ストレージ社企画�雋覯菽甘�参��
- Dan Tracy SEMI Industry Research & Statistics�靆腑轡縫▲妊�レクタ
(2016/01/22)
