�潅翦焼�������輸出���Uに�瓦垢訝羚駭��Bの報復に日本は�棺茲任�るのか?
�盜駭��Bは、2022�Q10月に�潅翦焼���および���]����の輸出���Uを�j幅に�啣修靴拭Ｆ穎��Bからの�咾ね��个如�日本���Bは、�]浸ArF 露光����を含む半導�����]����23���`を輸出��易管理����とする経済�噞省省令を2023�Q7月23日から施行した（参考�@料1）。オランダ���Bも、先端半導�����]����に�瓦垢訖靴燭瞥⊇����Uを発表し9月1日から実施すると発表した。
いずれも�盜駭��B主導の「�潅翳餔腕�」に加担し、同���Bの要�个房{��した�W��保障�屬料���で、先端半導���\術の����転��を防ぐ狙いがあるとされている。�盜駭��Bは、中国�x場を失いたくない�盜馮焼���業�cや���]����業�cの反�瓦魏，契擇辰��潅����Uをさらに�啣修靴茲Δ噺‘い靴討い襦Ｆ��櫺い巴羚颪悗糧焼������]����の輸出を厳しく���Uすることに�眼^して、中国も半導��素材の�L外輸出���Uを8月1日より始めると�x言した。この辺の��情を考察してみよう。
オランダの�潅耆⊇����Uはリソグラフィ����だけではない
オランダ���Bは、ASMLが�x場を独��しているEUV露光����（�S長=13.5nm）に関し、�盜駭��Bからの要�个如�中国企業への輸出を以�iから��実�峩慵Vしており、SMICはじめ中国企業は��く入�}できていない。オランダ���Bは、さらに今�Q9月1日からは輸出の際に���Bの認可が��要となる����の����を広げることにした。ASMLの露光����に限った���U拡�jと誤解している向きがあるので、ファクトチェックすることにしよう（参考�@料2）。
まず、オランダ���Bが���U����とする露光����は、
1. 光源�S長が 193 nm 未満の����
2. あるいは光源�S長が 193 nm 以�屬�����で、以下のaとbの条�Pを両�桔�たす����
a)45 nm 以下の最小解�飢��Ε侫�ーチャーサイズ (MRF) のパターンを�收�できること
b)専��チャック オーバーレイ (DCO) の最�j値は 1.50 nm 以下であること
なお、最小分解可�Ε侫�ーチャー サイズ (MRF：つまり解�掬�) は、次の式に��って���Qされる。
この式はオランダ語で表記されているが、分子は（光源の�S長（nm））× (K ファクタ)、
分母は最�j開口数。ここで、K ファクタ = 0.25。DCO とは、同じリソグラフィシステムによってウェーハ�屬墨�光された�J�Tのパターン�屬凌靴靴ぅ僖拭璽鵑琉���合わせの�@度（単位：nm）を��す。
これをもとに���Qすると、ASMLの�]浸ArF露光����であるTWINSCAN NXT:2000i およびその後��の�]浸システムが該当することがわかる。ASMLの中国�x場での売�峭發蓮�2023�Q��1四半期には総売り�屬欧�8％に�圓�なかったが、��2四半期にはいっきに24％に�\加している。�]浸ArF露光����に関するオランダ���Bの���U開始直�iの�~け込み��要とみられ、��3四半期（9月から���Uされるので7〜8月分）にはさらに���\する見込みである（参考�@料3）。
しかし、オランダ���Bの���Uは露光����に�里泙蕕此�
・EUVぺリクル
・EUVぺリクル���]����
・ALD（Atomic Layer Deposition）����
・シリコン (Si)、炭素ドープ シリコン、シリコン ゲルマニウム (SiGe)、または炭素ドープ SiGeの エピタキシャル成長����
・Low‐k膜�\積����
なども新たに���U����としている。オランダに本拠を��く2�j半導�����]����メーカーであるASMLとASM Internationalが直接的な影�xを�pけることになる.
中国がついに反撃を始めGaとGeの輸出���U
中国の商��省と税関総署は7月3日、半導��デバイスの基��材料になるGaとGeの単��および関連����を輸出���Uの����にすると発表した。今�vの中国���Bの素材輸出���Uは、�盜颪�進め、日蘭が同調する先端半導��輸出���Uの�啣修��瓦垢��眼^措��であることは��白である。2023�Q8月1日から中国の輸出業�vは中国商��省と税関総署に輸出��可申�个掘≡�可されない限り中国から輸出できなくなるのはGaAs、 GaN、Ga2O3基��だけではなく�T晶���]��の�g��やスクラップも含まれる。違反行為をした場合、商��省および税関は関連法令に基づき行��罰を課し、���Mを構成する場合は刑��責任を問うと脅している。
7月3日に中国商��省が発表した���U���`は、以下のように広�J囲にわたる（参考�@料4）。
Ga関連
・金�錺�リウム(単��)
・窒化ガリウム(ウェーハ、�g��、スクラップなどを含むがこれらに限定されない)
・�┣愁�リウム(�H�T晶、単�T晶、ウェーハ、エピタキシャルウェーハ、�g��、スクラップ等を含むがこれらに限定されない)
・リン化ガリウム(同��)
・ガリウムヒ素(同��)
・インジウムガリウムヒ素
・セレン化ガリウム(同��)
・アンチモン化ガリウム(同��)
ゲルマニウム関連
・金�錺殴襯泪縫Ε�(単��、�T晶、�g��、破砕�馘�を含むがこれらに限定されない)
・ゾーン溶解ゲルマニウムインゴット
・リンゲルマニウム亜�l(同��)
・ゲルマニウムエピタキシャル成長基��
・二�┣愁殴襯泪縫Ε�
・四�e化ゲルマニウム
中国は供給されるGaの9割、Geの6割を�忼しており、日本は��にGa素材の世�c最�jの輸入国であり、中国が本気で輸出を���Uするようなことがあれば、日本の半導���噞への影�xは�cけられないだろう。日本は、半導��素材�j国と言われているが、�@��や加工を�u�Tとしており、原材料については�L外、��に中国に依�Tしている場合が�Hい。Gaは、Al�@錬時の副�收��颪箸靴瀞uる�桔，�最も経済的で普及しているが、Alは電気の�修箸發い錣譴襪曚瓢@錬に電気を消�Jする。日本では度�_なる電気料金の高�_により、2014�QにAl�@錬の80�Qの歴史に幕を閉じてしまった。
中国���Bの報復に日本は思慮深く�棺茲任�るのか？
先端半導��や����の�潅耆⊇����Uがさらにエスカレートすれば、中国は�眼^措��として、今後、レアアース��般の輸出���Uへと発�tする可��性もありそうである。日本���Bは、�盜颪房{��して�潅翦焼������]����輸出���Uを�啣修靴討い襪�、中国の�眼^措��を予�Rし、日本の国内企業が困らないように思慮深く�敢�を考えたうえで���Uを�啣修靴討い襪茲Δ砲聾�えない。
2019�Q7月1日に経�愱は、�潅翦焼���素材輸出���Uを発表した際には、翌日に本欄（2019�Q7月2日��け、参考�@料5）で、「���Eの問��を���E的�Bし合いで解��しようとはせず、返り�pを浴びかねない通商��策を�W��しようとするのは日本���Bの愚策であろう。通商��策を�eち出すのは日本�笋砲碵H�jな不�W益をもたらす懸念がある。�f国勢の日本�`れも進みかねない、長期的には日本の失うものが�jきい」と主張した。振り返ると、�j阪の複数のフッ�┘瓠璽�ーが被害を�pけただけではなく、�f国での半導��材料国�僝を�膿覆気察���には�Hくの日本の����材料メーカーが�f国���Bの誘致やSamsungの�咾ね��个倍f国に���]施設だけでなく研�|施設まで�‥召擦兇襪鰓uなくなり、日本の半導��関連�噞の空��化が進んだ。
日本���Bは、�盜颪慮世い覆蠅砲覆辰��潅耆⊇����Uを�啣修垢襪箸いΔ覆蕁�4兆��を��える日本の半導�����]����輸出の3割を��める中国向け（財��省2022�Q��易統��）が著しく��少するリスクや中国���Bの報復措��に�瓦垢��官�策を�科����△垢戮�であるが、そのようには感じられず、����メーカーは不�Wを募らせている。����経済�噞相は、経�愱の23���`の輸出���Uは中国を念頭に��いたものではなく、中国のGa/Ge輸出���Uは、日本の輸出���Uの�眼^措��とは理解していない、などと言っている。何をかいわんやだ。
中国の半導������国�僝を�膿覆憩�本勢の��を絞めるだけ？
日�櫺い糧焼������]�������U�啣修如∠f国同様に、中国の���]����国�僝の勢いが�\している。�]浸ArF露光����やEUV露光����をひそかに開発しているようである（参考�@料6）。蘭ASMLのピーター・ウェニンク最高経営責任�v（CEO）は、中国の動向を把�曚靴燭Δ┐如�4月26日の�Q次株主総会で、「中国が外国��の���]����の調達を���Uされている�X況で独�Oの����開発を�`指すのは当��だ。��争相�}（中国）が露光����を�攵�するのは�O��の成り行きだ」と、���Uは中国の�O主開発を�膿覆垢襪世韻世微Z言を呈していた。
本来、半導���噞は、本来、「素材���]」「システム・�v路設��」「デバイス���]」「組立・検�h」「販売」がコストミニマムでできるよう、国際的な分業で成り立っている。���E家や官�^は、�盜颪慮世い覆蠅砲覆辰董�国家分��を�\長し、国際サプライチェーンをずたずたに切り裂くのではなく、むしろ国際的な�g張緩和を図り、国際および国内サプライチェーンの�H�_化・���顕修謀悗瓩襪戮�であろう。��の御旗として掲げる経済�W��保障のあり�気盧胴佑鰺廚垢襪世蹐Α�
参考�@料
1. �K����、「経�愱が半導�����]����など23���`の輸出を2023�Q7月より���U、その中身を読み解く」、マイナビニュースTECH+ (2023/04/03)
通�愱省令は法��文書���~の�M解な表現でわかりづらいので、���U23���`についてプロセス別に分類してどこよりもわかりやすく解説している。
原文はこちら
2. �K����、「オランダ���B、露光����などの先端半導�����]����の輸出���Uを9月より�啣�」、マイナビニュースTECH+ (2023/07/03)
3. �K����、「ASMLの2023�Q��2四半期売�峭發��i四半期比2％�\の69億ユーロ、中国向け売�峭發��\加」、マイナビニュースTECH+ (2023/07/20)
4. �K����、「�潅翦焼���輸出���Uへの�眼^措��か？中国がGaとGeの輸出���Uを発表」、マイナビニュースTECH+ (2023/07/20)
原文はこちら
5. �K����、「Huaweiへの禁輸解除や�{加関税先送りの陰に半導��業�cの圧��」の最終�I「経�愱、通商��策に半導��材料を�W��、日�f関係さらに�K化へ」、セミコンポータル (2019/07/02)
2019�Q7月1日の突��の�舘f半導��素材輸出���Uの発表を�pけて、すでに掲載直�iの原�Mの最後に�g���{記した。
6. �K����、「中国恐るべし！中国はスパコンに��き先端EUV露光����も�O主開発か？」、セミコンポータル (2023/05/11)
