Imec、忙煤燎のためのリソとエッチング供鎳の刪擦緘恕を倡券
染瞥攣供眷の忙煤燎步が滇められるようになってきたが、ベルギ〖の甫墊倡券柴家であるimecは、リソグラフィとエッチング供鎳における茨董砷操を年翁弄に刪擦するシミュレ〖ションを券山した。染瞥攣プロセスの茨董刪擦によりCO2猴負への灤忽を慮つことができる。まずはリソとエッチング供鎳でEUVの庭疤拉が績された。
Imecの供眷では、茨董にやさしいプロセスを謄回し、フッ燎を蝗ったエッチングガスを負らし、EUVスキャナ〖のスル〖プットを呵絡嘎懼げ、垮燎や垮の蝗脫翁を負らす、などのソリュ〖ションを倡券してきた。IC瀾隴で怯叫されるCO2は、肌の10鉗粗で4擒にも籠えると斧られている。ウェ〖ハの欄緩翁が籠えるとともにICの礁姥刨が光まるからだ。このようなシナリオに灤借するため絡緘染瞥攣メ〖カ〖は2030×2050鉗の粗にカ〖ボンニュ〖トラルを茫喇することをコミットしている。
カ〖ボンニュ〖トラルとは、怯叫されるCO2と帝箭するCO2翁を票じにしようという活みのこと。毋えば竣濕をたくさん竣えると各圭喇によりCO2を帝箭して煥燎を叫すから、カ〖ボンニュ〖トラルを茫喇するための銅蝸な緘檬の辦つである。
Imecでもチップ瀾隴にはCO2怯叫悸劑ゼロを謄篩にするサプライチェ〖ンを菇喇するSSTS∈Sustainable Semiconductor Technologies and System∷プロジェクトを惟ち懼げた。このゴ〖ルの辦つは、染瞥攣緩度に迫極のボトムアップ緘恕を捏丁することである。これは、プロセスとフロ〖の倡券面に茨董に絡きな逼讀を涂える刪擦を光い緯刨でわかる慌寥みを侯ろうというもの。
剩眶のパ〖トナ〖と定蝸しながらimecは、SSTSプロジェクトの先寥みの面で、茨董へのインパクトを年翁弄に刪擦できるモデルを介めて倡券した。潑にリソグラフィとエッチングの供鎳に簇して屯」なプロセスノ〖ドに畔って拇べた。≈この簿鱗ファブのツ〖ルを蝗って3nmのロジックプロセスノ〖ドを瀾隴するリソグラフィとエッチング供鎳では、怯叫されるスコ〖プ1∈供眷柒の劉彌や肋灑からの怯叫∷とスコ〖プ2∈嘲嬸から拇茫するエネルギ〖からの怯叫∷の45%が逼讀することがわかった∽とimec禱窖スタッフの面看メンバ〖であるEmily Gallagher會は揭べている。
哭1 リソグラフィとエッチング供鎳でのCO2怯叫のシミュレ〖ション プロセスノ〖ドの腮嘿步と鼎に怯叫翁は籠裁 叫諾¨Imec
哭1で山されているように、N7プロセスノ〖ドでは、それまでの10nmや7nmのようなマルチパタ〖ニングによるCO2怯叫翁と孺べ、EUVを蝗うことで、1攙で溪各が貉むため湯らかに負警するという汗が斧られた。さらに悸狠のファブでの怯叫翁とも年翁弄に孺秤している。毋えば、EUVのド〖ズ翁を10%負らすとウェ〖ハ碰たりのCO2怯叫翁は0.4kg尸を淚腆できた。このことは、絡きなファブで髓奉40トンものCO2を猴負できることになる。
ただ、哭1では、さらに腮嘿步ノ〖ドを渴んで乖けば乖くほど、CO2の怯叫翁は籠えていく。EUVといえども俐升ˇ俐粗持を腮嘿にするためにはマルチパタ〖ニングが澀妥となるためだ。このため、さらなる猴負緘恕が滇められる。
Gallagher會は≈ImecはEdwards家とパ〖トナ〖シップを寥み、300mmのクリ〖ンル〖ム柒のEUVリソグラフィでは垮燎攙箭システムを肋彌した∽と咐う。これによって垮燎の70%を攙箭できるとしている。
裁えて、≈EUVリソグラフィでは、0.33NA∈Numerical Aperture¨倡庚唯∷と光NA∈0.55NA∷の劉彌鼎に、你ド〖ズ翁のソリュ〖ションの倡券にも廟蝸している。また、驕丸よりもガス久銳翁を負らすことで、積魯拉∈サステナビリティ∷にも礁面している∽と揭べている。毋えば泅遂の更さを泅くすればガス翁を負らせるため、nmレベルの更さまで浮皮する。肌のタ〖ゲットはプロセス鏈攣に畔るCO2怯叫の逼讀を拇べることである。
