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3nmプロセスノードでTSMCとSamsungがしくい合う

3nmプロセスを巡ってTSMCとSamsungが\術をっている。TSMCは、6月に盜颪燃いたTechnology Symposiumで3nmプロセスノードのN3およびN3EのFinFET\術と、2nmノードのN2プロセスを発表した。SamsungはGAA(ゲートオールアラウンド)構]の3nmプロセスノードでチップ攵を始めたと発表した。

図1 Samsungが3nmノードの量を始めたと発表 出Z:Samsung Electronics

図1 Samsungが3nmノードの量を始めたと発表 出Z:Samsung Electronics


TSMCは櫃燃されたTSMC Technology SymposiumでN3とN2の先端\術を発表したが、櫃砲聾楜劼Hいため世cに先~けて発表する\術がHかった「コンピューテイング性Δ氾杜効率の向屬かつてないほど]に進tしている」TSMCのCEOであるC.C. Weiは 述べており、微細プロセスノードの開発に勢いが\している。

3nmノード\術ではFin FETトランジスタのFinの数を変えることで、トランジスタ性Δ鯤僂┐蕕譴襪茲Δ棒濕した。これをFin FLEX\術と}んでいる。例えば、3本のFinと2本のFinを交互に配した3-2Fin構成は性νダ茲離肇薀鵐献好拭2本のFinと1本のFinを交互に並べた2-1Fin構成は消J電の削を最優先したトランジスタ、そして2-2Fin構成のトランジスタはその中間の性Α消J電をeつトランジスタ、という3|類のFinFETを揃えた。Finの数は、プレーナのMOSFETで表現するW/L(ゲート幅/ゲート長)のWに相当する。つまり電流~動ξを高めたい、すなわちWをjきくしたい場合はFinの数がHいということになる。

これらFinの数を顧客の要求に応じて変えられるためFin FLEX\術と}んでいる。基本的なFin FET構]を変えずにFinの数だけを変えられるようにしているため、トランジスタ性を柔軟に変えることができる。極めて柔軟なシステマティックなトランジスタ構成といえる。

このFin FLEX\術によって、5nmノードであるN5プロセスと比べ、ロジック密度は60%、性Α]度)は18%、消J電は34%低するという。またDとしたトランジスタ設\術によって、23%のC積削ができるとしている。N3\術は2022Q後半から量に入る予定だ。

さらに進んだ2nmプロセスノードの\術N2ではFinFETではなく、ナノシート構]のトランジスタ(実的にGAA構])を使う。N3プロセスと比べ、性Δ10~15%向屬、消J電は25~30%削される見込み。N2プロセスは2025Qに攵を始める予定である。

TSMCはチップレットのような3D-ICにも言及しており、SoICチップスタッキング\術として2|類を紹介した。kつは、ウェーハ屬離船奪彈◆CoW: Chip on Wafer)を使ったSoICベースのCPU\術で、レベル3キャッシュメモリとしSRAMをスタックする。もうkつはウェーハ屬吠未離ΕА璽呂鯆_ねる実◆WoW: Wafer on Wafer)を使った深いトレンチキャパシタチップ屬縫ぅ鵐謄螢献Д鵐箸淵廛蹈札奪気鯏觝椶垢覿\術である。

Samsung、3nmでGAA採

kSamsungの3nmプロセスは量に入ったと発表しており、GAA構]を使っているが、来のGAA構]でみられるようなナノワイヤーではなく、2次元的に広げたナノシート構]のGAAとなっており、プレーナMOSFETのWをPばすために数のナノシートを、絶縁膜を挟んで_ねている。その構]を、同社はMBCFET(Multi-Bridge-Channel FET)と}んでいる。

MBCFETを使った3nmプロセスノードは、5nmプロセスと比べ、消J電は最j45%削し、性Δ23%向、C積は16%低できるという。今vの3nmプロセスを進化させる2世代の3nmノードでは消J電は50%削し、性Δ30%向、C積は35%少するという。

Samsungは、2021Q3四半期から始めた、設インフラの仕組みSAFE(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)と}ぶパートナープログラムを開始、Ansys、Cadense、Siemens、Synopsysらのパートナーの設・検証ツールを使えるようにしている。

Samsungが提供する3nmプロセスノードの量では、どのメーカーとファウンドリ契約したのか、さまざまなうわさが飛んでいる。そのような折、IBMが次世代Power 10プロセッサを開発、それを搭載したミッドレンジサーバーを発表(参考@料3)、i世代のPower 10プロセッサのシステムと比べ、コア数とメモリバンド幅は2倍になったと述べている。さらに、QPower10プロセッサコアにはAIモデルの性Δ魏するための行`演Qアクセラレータが4個集積されている。IBMの1世代のPower10プロセッサはSamsungの7nmプロセスで]されていたが、この2世代のPower10プロセッサは3nmで]されたのかどうか、らかではないが、少なくともファウンドリはSamsungである可性は否定できない。Samsungの]パートナーの内の1社だからである。

参考@料
1. "TSMC FINFLEX™, N2 Process Innovations Debut at 2022 North American Technology Symposium", TSMC (2022/06/17)
2. "Samsung Begins Chip Production Using 3nm Process Technology with GAA Architecture", Samsung (2022/06/30)
3. "Announcing IBM Power10 Scale-Out and Midrange Servers", IBM (2022/07/12)

(2022/07/13)
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