糠しい妨のコラボレ〖ションを滔瑚するアルバニ〖のナノテクセンタ〖
勢柜ニュ〖ヨ〖ク輝から300kmほど違れた頌嬸の漠、ニュ〖ヨ〖ク劍アルバニ〖にあるニュ〖ヨ〖ク劍惟絡(luò)池ナノテクセンタ〖CNSEの悸輪が湯らかになった。これは、澎疊糠繳で倡號された、柜狠染瞥攣欄緩禱窖シンポジウムISSM∈International Symposium on Semiconductor Manufacturing∷2010の面で、票絡(luò)の士懷攬兜鑒が答拇怪遍で揭べたもの。
哭1 アルバニ〖ナノテクセンタ〖の嘲囪
ニュ〖ヨ〖ク劍惟絡(luò)池アルバニ〖夠が染瞥攣尸填で銅嘆なのはCNSE (College of Nanoscale Science & Engineering)と鈣ばれる池嬸である。ここが染瞥攣緩度の坤腸面の措度やコンソシアムと鼎票甫墊している。かつては染瞥攣緩度をマイクロエレクトロニクスと鈣んだが、腮嘿步潰恕がナノメ〖タ〖レベルにまで教井してきたためナノエレクトロニクスという咐い數(shù)をしている。ナノエレクトロニクス度腸とは染瞥攣度腸のことを回す。CNSEでは、染瞥攣度腸と定蝸し禱窖弄にも沸貉弄にも頂凌蝸のある茨董を侯ろうというミッションを積つ。
かつては、甫墊ⅹ倡券ⅹ欄緩、という哭及の面で措度は絡(luò)池にとって獲垛を捏丁してくれる杠狄であった。海はこの哭及を賄め、措度をパ〖トナ〖として斧、墓袋弄な甫墊、面袋弄な倡券、沒袋弄な欄緩惟ち懼げ、というすべてのフェ〖ズに畔って絡(luò)池が措度と定蝸するという、いわばR&Dのパラダイムシフトが彈きていると雇えている。
哭2 甫墊倡券のパラダイムシフト
ニュ〖ヨ〖ク劍はもちろん獲垛を捏丁するが、その晾いは極跡攣としての頂凌に盡ち、港脫を料叫することであるという。緩池定票の毋としては、2005鉗9奉にアプライドマテリアルズ∈AMAT∷とIBM、CNSEとの鼎票センタ〖に3帛ドル、INVENT∈長嘲の措度や絡(luò)池との鼎票のナノリソグラフィコンソ〖シアム∷に7鉗粗で6帛ドル、R&Dと瀾隴に15帛ドルのパッケ〖ジなど、緩度腸を面看とした獲垛懲評に裁え、SEMATECHやビステック家の投米にも喇根した。
哭3 2005鉗からこれまでの肩なプロジェクト
CNSEは潑にIBMと鼎票でいろいろなプロジェクトを積っているが、鼎奶することは300mmウェ〖ハの琵圭プロセスの甫墊倡券である。毋えば、CNSEとSEMATECHプロジェクトには、IBMのほかインテル、UMC、サムスン、グロ〖バルファウンドリ〖ズも裁わり、CNSEとIBMのプログラムにはグロ〖バルファウンドリ〖ズ、澎記、チャ〖タ〖ド、サムスン、ルネサス、フリ〖スケ〖ルが徊裁している。CNSE劉彌プログラムは、AMAT、澎疊エレクトロン、ASML、ラムリサ〖チ、KLA、ビステック、ノベラス、泣惟ハイテク、繃付瀾侯疥、絡(luò)泣塑スクリ〖ン瀾隴からなる。
300mmウェ〖ハプロセスラインでは、呵糠の劉彌が150駱笆懼肋彌されている。しかし、2011鉗には供眷をもう辦棚氟蜜する徒年になっており、橙磨すると稿供鎳の倡券ラインを崔め、250駱笆懼の憚滔になる紛茶である。附哼のウェ〖ハプロセスラインの欄緩墻蝸は、25琵圭WSD∈wafers starts per day∷であり、附悸には22WSDだとしている。この25琵圭WSDとは、155供鎳17綏マスクの篩潔プロセスのウェ〖ハを1泣25綏抨掐し25綏叫蝸するという借妄墻蝸を山す回眶である。士懷兜鑒は、泣塑弄な咐い數(shù)では2000×3000綏/奉鎳刨に陵碰するのではないかと揭べている。
このラインでは90nmから22nmまでサポ〖トできるとしている。リソグラフィ劉彌は、ASMLの1200から1700i、1950iと、俐升/俐粗持∈L/S) 80nm、50nm、35nmの劉彌を路えている。これらのArFリソグラフィ劉彌に裁え、さらに腮嘿裁供が材墻なEUV劉彌∈L/S=28nm∷、排灰ビ〖ム溪各怠(L/S=10nm)も積つため、呵黎眉の染瞥攣倡券が材墻である。
これまでの給山できない染瞥攣緩度のパ〖トナ〖を崔め、250家ˇ甫墊怠簇を畝すパ〖トナ〖と定蝸簇犯にある。さらに絡(luò)池粗での鼎票プログラムも渴めている。毋えば、INDEX (Institute for Nanoelectronics Discovery and Exploration)プログラムには、カリフォルニア供彩絡(luò)池、コロンビア絡(luò)池、ハ〖バ〖ド絡(luò)池、MIT、パデュ〖絡(luò)池など鏈10夠と定蝸している。
