まずパターン加工だ。プリント�v路基��そのものの�}び�@が適切ではなくなってきた。配線パターンを��来のプリント(印刷)�\術ではなく、光リソグラフィ�\術で加工することが今や常識となっている。プリント�\術を使わないプラスチック基��の配線パターンをどう�}べばよいのかわからないが、ここでは慣例�屐▲廛螢鵐��v路基��と�}ばせていただく。

半導��の世�cではArFレーザーの�]浸�\術が最も微細なパターンを量��レベルで切っているが、プリント�v路基��ではレーザーによるマスクレス直接�W画����が量��レベルで使われている。レーザー直�Wは、半導��のEB（電子ビーム）直接�W画に等しい。ところが、JPCA2010ショーにおいてウシオ電機が発表したリソグラフィ����はL/Sが4μmとこれまでの最高レベルに達し、レーザー直�Wの線幅を�sいている。1970�Qにインテルがマイクロプロセッサを発表した時が10μm線幅だったから、その当時のシリコン半導��を��えた�lだ。ウシオの����はしかもステッパである。

�v路線幅が最小でも4μmだから�S長の�]いエキシマレーザーではなくUVランプを照�oする�lだが、並行光線をステップアンドリピート��(sh┫)式で�v路基��に照�oすることで�j(lu┛)きな�v路基��のパターニングを行う。ここまで微細なプリント�v路基��とは実は半導��チップをアセンブリする基��に使う。例えばインテルのプロセッサチップのアセンブリは日本のイビデンや新光電気工業が行っているが、シリコンチップを搭載する基��の�v路線幅が10μm��度まで微細化している。このウシオのステッパUX-55はこういったメーカーに納める予定である。�Hくの�k般的なプリント�v路基��ではフォトマスクには�^真のフィルムそのものを使っているが、このステッパでは半導��と同様、高価なガラスマスクを使うという。

�k��(sh┫)、レーザー直�W����を2000�Qころから出荷してきたオルボテック（Orbotech）社は、��来の約2倍高�]の最�j(lu┛)5000��/日というスループットの新����を出してきた。オランダのASMLがデュアルスキャン��(sh┫)式によってスループットを�屬欧燭茲Δ法▲�ルボテックのParagon-Xpress9も待ち時間のない、デュアルスキャン��(sh┫)式でスループットを�屬欧拭�1時間当たりのスループットは240��である。この����の最小パターンサイズは25μm、解�掬戮�2.5μm、位��合わせ�@度は±12μmである。

パターン加工の実��から言えばレーザー直�Wよりもステッパの��(sh┫)が微細化に適しているといえる。これが半導��リソグラフィとの逆転現��(j┫)だ。

10Gbpsのような高�]伝送に�△┐董▲廛螢鵐��v路基���屬砲盡�配線を�W(w┌ng)��する試みが出てきている。日立化成工業は、日本CMKと共同で、高�]伝送が��要な応��では基��内に光導�S路を作り、ギガビット伝送ができることを提案した。これは�v路基��の�屬縫�ラッド層となる�`脂、さらにコア層となる光硬化型�`脂を載せてゆき、コア�`脂をパターニングして導�S路を構成する。最後のその�屬縫�ラッド層を載せ、光を閉じ込める�lだが、コア層の両端は�Aめの角度を��けて光を反�oできるような構�]を作��する。クラッド-コア-クラッドだけの透��なフィルムを日立化成は開発し、日本CMKがプリント�v路基��を提供、加工する。導�S路の��失は0.04dB/cmと低いため40〜50cm��度なら使��に耐える。テラバイト/秒の高�]ルータなどの基��を接��するのに使えると見ている。4Gbps伝送のアイパターンを�莟Rしている。 また、住友ベークライトも日立化成と同様なクラッド-コア-クラッドだけの透��なフレキシブル基��を開発しているが、プリント�v路基��には組み込んでいない。

日立化成とCMKによるプリント�v路基���屬慮�配線の提案

高�]基��ではなく、リチウムイオン電池を�e�`接��して�j(lu┛)電流応��にプリント�v路基��を使おうという提案もある。住友ベークライトは、厚さ600μmという厚い銅のバスバーでリチウムイオン電池をつなぎ、バッテリマネジメントICも搭載できる合��8層のリジッド-フレキの基��を提案した。総厚は3.6mmとなる。これでリチウムイオン電池をつなぎ�w定する。配線��の銅プレートは丸い配線よりもインダクタンスが小さいため、こういった�j(lu┛)電流����に向いているかもしれない。ただし、今のところ電流容量は40〜50Aどまりだとしている。

住友ベークライトの�j(lu┛)電流接��基��

今�QのJPCAショーは昨�Qに比べ�r況で、初日、2日�`の合��来場�v数は、昨�Qの5万9476人に�瓦靴董∈ｃQは6万8457人と15%�\になった。