ナノテクの洛山聯(lián)緘、フラ〖レンC60を派邵裁供できる
煤燎付灰がサッカ〖ボ〖ル覺に菇喇されているフラ〖レンC60が、染瞥攣プロセスに耙蝸を券帶しそうになってきた。話嫂睛禍、話嫂步池などが叫獲するフロンティアカ〖ボン家は、フラ〖レンを藕裁した排灰ビ〖ムレジストがパタ〖ンを裁供できることを悸沮した。
フラ〖レンは木仿腆0.7nm面に煤燎付灰が60改低まったサッカ〖ボ〖ル覺の尸灰菇隴を積つ。泰刨が光いため怠常弄な古刨は光い。染瞥攣チップの呵井裁供潰恕が32nm、22nmなどと付灰レベルに奪づくにつれ、銅怠レジストの尸灰の絡きさがパタ〖ン妨覺を焊寶するだろうと咐われている。フラ〖レンは尸灰が井さいため腮嘿な潰恕を裁供するのに銅司渾されていた。
しかし、フラ〖レンは銅怠拖寢に拖かすことが豈しく、レジスト亨瘟に炳脫することが豈しかった。拖寢に拖けにくいのは、フラ〖レン尸灰の杜礁蝸が動く木仿20μm鎳刨の摻になることが驢かったからだという。クラスタ覺輪になるのを松ぐため、拖寢と科下蝸の動い彌垂答をつけることに喇根した。このほど、その翁緩のめどが惟ち、フロンティアカ〖ボンはフラ〖レンの任卿に蝸を掐れ幌めた。
これまでの彌垂答をつけないフラ〖レンなら1wt%踏塔しか拖寢に拖けなかったという。票家は糠しいフロンティアカ〖ボンの瀾墑步を渴めるため、彌垂答をできるだけ警なくしてフラ〖レンの潑拉を澄瘦しながら、拖寢に拖けるものを淋し滇めた。レジスト亨瘟として悸烙のあるPGMEA∈プロピレングリコ〖ルモノメチルエ〖テルアセテ〖ト∷やPGME∈プロピレングリコ〖ルモノメチルエ〖テル∷、訖煥エチル、アニソ〖ルなどの拖寢には10wt%笆懼拖ける。この馮蔡、レジストを驕丸と票じように派邵できるようになった。
裁えて、フォトレジストのエッチング卵拉は票じような鹼梧のレジストと孺べ15~30%羹懼したという。これはCF廢のドライエッチング掘鳳布にレジストパタ〖ンをさらし、その嘿り惡圭をチェックした。悸狠のレジストパタ〖ンは給倡できないが、LER∈ラインエッジラフネス∷も羹懼したとしている。芹俐升、芹俐粗持として、50nm,70nm,100nmのパタ〖ンを裁供したという。
海攙のEBレジストに裁え、ArFレジストにも蝗えそうだ。これまでの銅怠レジストでは裁供が豈しくなるような腮嘿な潰恕の裁供に羹くためだ。裁えて、投排唯が2鎳刨のlow-k亨瘟への炳脫や、排端山燙姥の絡きな排丹企腳霖キャパシタへの炳脫も袋略されている。もともとn房染瞥攣であるフラ〖レンを銅怠拖恨に拖かしp房染瞥攣に派れば呂哇排糜が叫丸るという券山も緩度禱窖另圭甫墊疥からも叫ている。
塑呈弄な翁緩が渴めば擦呈は、驕丸の10它邊/gから翁緩箕には500邊/g鎳刨まで布げられるとしている。
フロンティアカ〖ボン家は、フラ〖レンそのもの、および拖閉に拖かしたフラ〖レンを任卿する亨瘟メ〖カ〖だけに、レジストパタ〖ン裁供の悸賦掘鳳や溪各、エッチング掘鳳などの拒嘿はまだ廈せないとしている。
