Brionのリソグラフィシミュレ〖ション、モデルの呵努步で籃刨羹懼面
オランダASML家槐布にある、勢Brion Technologies Incは、これまでのマスクを餞賴するOPCなどの緘恕を紛換するリソグラフィシミュレ〖ションを倡券してきたが、呵奪マスクレベルだけではなく、救湯廢と各故り廢、ウェ〖ハレベルの4つの各池廢イメ〖ジプレ〖ンについてモデルの倡券と、稱レベル粗の呵努步についてのシミュレ〖ション緘恕を倡券していることを湯らかにした。
この緘恕を蝗えば、毋えば各富の妨覺を呵努步することで、コントラストのはっきりしたパタ〖ンを閃くことができる。4つの救湯妨覺を積つ驕丸のクェ〖サ〖房の各富妨覺の眷圭だと、パタ〖ン俐懼のピ〖ク猛とパタ〖ン俐笆嘲∈バックグラウンド∷の各動刨との汗が警なかった。このため、4つの救湯妨覺を餞賴した各富でシミュレ〖ションしたところ、パタ〖ン俐懼のピ〖ク猛は驕丸のクェ〖サ〖房よりも光く、パタ〖ン俐笆嘲の猛は你かった。つまりコントラストはより憐湯になった。これが各富妨覺の呵努步である。
マスクパタ〖ンを餞賴するためのシミュレ〖ションは海稿ともやはり腳妥な禱窖であると、Brion家家墓のJun Ye會は揭べている。プロセスウインドウを澄瘦するOPC禱窖のTachyon-OPC+という瀾墑は、豺嚨刨笆布のパタ〖ンの呵努芹彌をプロセス掘鳳の擴(kuò)嘎の傅で乖う。ラインの辦嬸がくびれるネッキングやパタ〖ンがつながってしまうブリッジングなどの殊偽まりに跟くパラメ〖タを券斧できるというメリットがある。そのようなパラメ〖タを呵努步すると殊偽まり羹懼に舔惟つ。
各故り(pupil)廢は、奪儡跟蔡の慷る神いを瘋めるが、各富廢よりも肋紛の極統(tǒng)刨が警ないという。各故り廢の呵努步は、プロセスドリフトを輸賴するために蝗われるが、まだ呵努步緘恕を澄惟していない。
4戎謄のウェ〖ハプレ〖ンでの呵努步については、各の救紀(jì)翁やアラインメント擴(kuò)告などをモデル步する。ここでは科柴家のASML脫のモデルを蝗う。
これらの呵努步緘恕は鼎奶で、まず囪盧するパラメ〖タ----マスクプレ〖ンならウェ〖ハ妨覺やプロセスウインドウ----を礁める。このパラメ〖タは謄篩猛との汗となる。肌に謄篩との汗を呵努步するためのアルゴリズムを悸乖する。その馮蔡、擴(kuò)告すべきパラメ〖タをチュ〖ニングし肋年しなおす。それを呵介のパラメ〖タ箭礁に提し、この侯度ル〖チンを帆り手す。
マスクを侯喇した稿でも、各富帴各故り帴ウェ〖ハの3つのプレ〖ンでチュ〖ニングは材墻だとしている。
