Avizaがデュアルインジェクション數(shù)及で綏屯及ALDのスル〖プットを澄瘦
ALD(付灰霖孿姥)禱窖の炳脫が絡翁欄緩のDRAMから警翁欄緩のロジックへと弓がりつつある。勢Aviza Technology家は、柜柒絡緘ロジックメ〖カ〖からCelsior FXP綏屯及のALD劉彌を減廟したと券山した。セミコンジャパン2007で、その拒嘿を湯らかにした。
これまでAviza家はバッチ及のALD劉彌をDRAM羹けに叫していたが、このCelsior FXPは45nmプロセス笆慣のロジック廢で蝗われるHfOやHfSiO廢のゲ〖ト冷憋遂妨喇を晾っている。裁えて、フラッシュメモリ〖の排操淡脖嬸尸が驕丸の赦頭ゲ〖トからONO遂を網(wǎng)脫する排操トラッピング遂∈Nの嬸尸∷へと禱窖が恃わりつつある。このような脫龐を晾う。
AvizaはこのALD劉彌のガス十き叫し庚を企つ肋け、デュアル酷きつけ菇喇にし、スル〖プットを澄瘦した。ゲ〖ト冷憋遂の炳脫では、Hfと煥燎の充圭を20%から80%まで恃えられるだけではなく、シリコン腸燙からゲ〖ト垛擄に羹かって警しずつ恃えていくことも材墻だという。つまり遂の菇喇をチュ〖ニングできることが戮家との汗侍步できる爬だとしている。
笆漣は1付灰霖ずつの孿姥だったために、ゆっくりとした喇遂しかできなかったが、海攙はデュアルインジェクション數(shù)及のためスル〖プットが懼がったとしている。ただし、掘鳳によってウェ〖ハ借妄綏眶が鏈く般うため、帽疤箕粗碰たりのウェ〖ハ眶については咐第しないが、澄悸にスル〖プットは懼がったという。
ゲ〖トメタルはシリコンとメタルとの慌禍簇眶の汗が、ゲ〖トしきい排暗に簇犯しているため、ゲ〖トメタルの寥喇菇隴∈ストイキオメトリ∷を恃えながらしきい排暗を拇臘していく澀妥がある。N+、p+のゲ〖トメタル亨瘟の寥喇菇喇にも銅跟になるとみている。
