更さ50μmのリチウムイオン排糜を侯瀾できる禱窖、劉彌をアルバックが倡券
リチウムイオン2肌排糜の更さがなんと0.1mm笆布と繪のように泅いバッテリが材墻になる。あまりにも泅いバッテリなので、ICカ〖ドやウェラブルコンピュ〖タ、欄攣脫デバイスなど、擂り妒げ材墻なフレキシブルな排糜を悸附できる。アルバックはアルバックマテリアルと鼎票で50μm笆布の泅遂でリチウムイオン排糜を欄緩できる禱窖と劉彌を倡券した。
この泅遂のリチウムイオン排糜は、排豺劑を蓋攣步しスパッタや絕緬などの靠鄂劉彌で欄緩できる。この泅遂リチウムイオン排糜は、賴端と砷端に排端寵濕劑霖、排端礁排霖、蓋攣排豺劑霖、甚賄霖という4つの嬸尸から菇喇されている。賴端のコバルト煥リチウム∈LiCoO2∷と蓋攣排豺劑のリン煥リチウム∈Li3PO4∷、排端礁排霖は綏駝及スパッタ劉彌(SME-200J)で妨喇する。排端礁排霖は砷端婁ではNiかCuを、賴端婁ではMgO/Ti/Ptをそれぞれ蝗う。砷端の垛擄リチウムは靠鄂絕緬怠(ei-5)で妨喇し、銅怠遂ˇバリヤ霖ˇ銅怠遂の3霖菇隴からなる甚賄霖は綏駝及絕緬腳圭劉彌∈PME-200∷で妨喇する。
蓋攣排豺劑を蝗うため、驕丸のリチウムイオン排糜で伏前亨瘟であった閉銑れの看芹がなく、曲券や券殘の看芹もない。泅遂で妨喇する排糜であるため、染瞥攣のプレ〖ナダイオ〖ドのような菇隴をしている。
スパッタ劉彌はDC、RFマグネトロンスパッタ數及であり、賴端のLiCoO2を妨喇した稿にそれを馮窘步させるためのRTA∈光廬アニ〖ル∷技など呵絡5技のプロセスチャンバを積つ。スパッタリングタ〖ゲットは賴端にLiCoO2、蓋攣排豺劑にLi3PO4を倡券している。アルバックマテリアルは光泰刨で堆辦に侯ることに廟蝸した。木仿440mmの絡房タ〖ゲットも倡券している。プラズマダメ〖ジを攙閏するための供勺を卉しているとしている。
喇遂するのは賴端がLiCoO2、排豺劑はLiPON、砷端がLiであるが、タ〖ゲットには賴端、排豺劑とも煥燎が驢く崔んでいるため、免燎でタ〖ゲットを叢傅して喇遂する。蓋攣排豺劑のスパッタレ〖トは5.4μm/箕と驕丸よりも3擒笆懼廬い。
甚賄霖はWLP∈ウェ〖ハレベルパッケ〖ジ∷のようにデバイスに蕊勝するわけだが、垮絕丹を帝いやすい銅怠遂を瘦割するため、バリヤ霖をコ〖ティングして垮絕丹による昔步を娃えた。
燙姥20mm∵20mmのセル寵拉撾拌を侯瀾したNuricell家のLiイオン排糜では、ト〖タルの更さが50μmで、瓢侯排暗は3.0~4.1V、排萎推翁は0.5~1.0mAh、呵絡排萎が15mA瓢侯補刨-20×120☆という潑拉が評られている。この泅遂排糜をICカ〖ドにも悸劉した毋を績している。
海攙、アルバックはこの活侯墑をSEMICON Japanで鷗績した。この活侯墑や禱窖を勵哼杠狄に斧てもらい、その瓤炳を斧ながら糠しい材墻拉を玫っていくとしている。
