平成19�Q(2007�Q)度の研�|成果として、マスク検�h�\術の検�h時間�]縮�\術を開発し、��来と比べ40%検�h時間を少なくできたとしている。検�h時間は�jきく分けてハードウエアの検�h時間と�L陥を見つけるレビュー時間がある。今�vはこのレビュー時間を�j幅に�]縮することで、ハードの検�h時間が変わらなくても、トータルの検�h時間を40%�]縮した。

�L陥レビュー時間を�]縮するため、��つの工夫を行った。すなわち、繰り返しパターンを�W��、パターンに�_要度を設け�L陥判定を�~素化、パターン転�^シミュレーションによる�L陥判定、である。

繰り返しパターンの�W��に関しては、1�|類のパターンで�L陥が見つかったら、その�Zくに同様なパターンを探す。そのためのソフトウエアを開発した。これは�瑤燭茲Δ捧|類のパターンで発�擇垢謠L陥は、複数同様なパターンで発�擇靴討い襪呂困世箸い�考えに基づく。さらに、�L陥のあるパターンに設��パターンを�_ねる。1�|類のパターン内だけで��確に合わせこむと同様なパターンにもそのまま使えるため、�@度が�屬�っている。さらに、マスクデータが200Gバイトを��すような巨�jな場合もあるため、16代のパソコンクラスタを並�`動作させる。これはビューワーの実効関数を並�`処理することになり、これまでビューワーが表��されるまでにかかる時間を1時間以内という�`�Yを設定し、1��105Gバイトを1��出すのに10分で済むようになった。これが2��の200Gバイトでも20分で済む。

パターンの�_要度を設定する�iに、まずマスクデータとなるMDR（マスクデータランク）ファイルから、検�hツールに合うようなDMフォーマットとよばれる形式にデータ変換する工数を��らした。��来はVSB（variable shaped beam）フォーマットへの変換や拡張変換などを経ていた。この段階を省�Sできることをチェック、確認した。

パターンの�_要度は、パターン幅の広い場所と狭い場所で判定のしきい値を変え、そのしきい値の違いを色で識別した。パターンの幅が広く�H少�Lけても��性に��く影�xを及ぼさないような場所の優先度を下げた。パターンの細い場所は最�_要度となる。

転�^パターンシミュレーションは、まず�L陥画�気鰓u、GDSファイルからパターン�莖��気鮑遒�、�L陥画�気板_ね合わせウエーハの画�気鮑鄒�する。このようにして�h価マスクを作り、�L陥判定に�W��する。なお、この検�h�\術のプレゼンテーションはニューフレアテクノロジーが行った。