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半導]の本格v復期25Q度に合わせ、工場新設が相次ぐ

工場建設の動きが相次いでいる。ソニーセミコンダクタソリューションズはタイの半導後工工場を完成させ、Bセラは鹿児と長崎に工場を\設する。f国のSK Hynixは盜颪帽場を建設すると報じられた。菱ケミカルグループはドイツの業拠点で半導の@密浄ξを5割拡jした。研|開発フェーズではキオクシアが研|所を再、j日本印刷は2nmのフォトマスク]プロセス開発に}した。

Sony Device Technology (Thailand) Co., Ltd. / ソニーセミコンダクタソリューションズ

図1 ソニーセミコンダクタソリューションズの新タイ工場 出Z:ソニーセミコンダクタソリューションズグループ


ソニーの半導グループ(ソニーセミコンダクタソリューションズ)は、タイのバンカディ地気糧焼]業所内に建設してきた新工場(図1)が完成、2月からn働し始めたことをらかにした。ここではZ載イメージセンサやレーザー、ディスプレイデバイスなどの後工をpけeつ。完成した4ナ錣臨oC積は、ユーティリティ霾も含み6万6370平汽瓠璽肇。クリーンルームのC積は8800平汽瓠璽肇襪世、今後の攵巩で1層から3層へ拡張されると2万6400平汽瓠璽肇襪砲覆觚込みだとしている。

新タイ工場のクリーンルームでは、要な霾に絞って{浄度やa湿度を管理する空調システムを導入し、廃Xおよびa水を再するリサイクル\術などを採しており、省エネを膿覆垢。4ナ鎔奮阿旅場ではすでに再擴Ε┘優襯ー100%でn働しているが、4ナ錣砲皺虻Cに陵杆パネルを設し、再エネ100%によるn働をけていくとしている。


Bセラは半導v復期が25Qになるとして、鹿児と長崎の工場を\設する。Bセラは、鹿児国分工場にu接する土地として、xの田畑のk角に、東Bドーム2個分に当たる約10ヘクタールの工業地を25QにもDuする画だ。もうkつの主攵喤点である鹿児川内工場(C川内x)の周辺でも同模の土地を△靴討い、と3月27日の日経噞新聞が報じた。


鹿児国分工場も\咾垢觜修┐鮓せている。国分工場では半導]に使うウェーハをw定するためのセラミックのサポート基を攵しており、Bセラの谷本秀夫社長は「25Qには作りきれないくらいの要になる可性がある」と見ているという。24Qの後半には長崎県諫早xでも工場の工を予定している。25Q3月期にはBセラとして垉邵能jの3000億弱の設投@を考えており、26Q3月期も同じ模を投じるという。


f国のSK HynixはインディアナΕΕД好肇薀侫エットに約40億ドルを投@して先端パッケージ工場を設立する画だ、とWall Street Journalが報じた。2028Qのn働を`指す。SK Hynixはメモリの3D-ICであるHBMメモリを攵しており、そのような先端パッケージ工場への投@を検討しているが、まだ定した実はないと述べている。


菱ケミカルグループは、ドイツのドレスデンに半導@密浄業の拠点をeつが、この工場で浄ξを5割\咾靴燭函26日の日刊工業新聞が報じた。ドレスデンにはIntelも330億ドルを投じて新工場を建設する画をeっているため、それに官する。


キオクシアは、来のメモリ研|所を再し、「先端\術研|所」を4月1日けで新設する。ここでは、新機材料や新原理デバイス、新プロセスなどを探索する「コアテクノロジー研|開発センター」、化に向けてプロトタイプ実証開発を行う「デバイス・プロセス研|開発センター」、そして、AI\術の基礎研|からその応や次世代メモリシステムの研|開発を行う「AI・システム研|開発センター」の3つの研|開発センターを設する。


j日本印刷は、EUVリソグラフィ向けの2nmプロセスノードに官したフォトマスク]プロセスの開発を本格的に開始したと発表した。NEDOの「ポスト5G情報通信システム基盤啣集|開発業」においてラピダスがpmした「(d1)高集積最先端ロジック半導の]\術開発」にDNPは再委m先として参画しているもの。25Q度までにプロセス開発を完了し、27Q度の量凮始を`指す。

(2024/04/01)
ごT見・ご感[
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