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中国のIC設・]・組立の現Xと世c

世cレベルでみると、設はSoC 設が主流であり、]では微細化が進み、パッケージングと組立がkになりつつある。

中国レベルでは、世c先進の設に{随し、世cと同等の]レベルに達したが、テスト\術は地場メーカーのD組みがれているため、まだ世cレベルとの差がjきい。

1)設\術
 中国のIC 設分野では、士蘭(2006 Qの売屐123 億)、AL(2006 Qの売屐202 億)中国華j(2006 Qの売屐180 億)などの専業メーカーが頭し、設\術は0.25um〜0.18um の設ξに達し、現在は先端\術で0.13um にDり組んでいる。
EDA ツールでは、中国華jがO社開発の「y猫九Wシリーズ(Zeni シリーズ)」などを含めたEDA ツールソリューションを成功させた。しかし、世cレベルにはまだ遠い。IP コアでは、中国の研|開発量がjきくなく、インターフェイスのYが不k致、再Wの組Eが不健、的所~権の保護がL如のため、中国独OIP の推進が極めて困Mである。また、L外勢は低価格か無料のロイヤルJを中国メーカーに提供しており、中国勢のIP コアの開発発tの邪魔になっている。

2)]\術
2003 Q、中国の8 インチウェハ]は世cx場の10〜12%のマーケットシェアになって、中国半導]の初期発t段階となった。SMIC、帷L華NEC などのj}がj模な攵Uをつくり、中国の半導噞がR`を集めていた。現在、]プロセスの最先端の主流は0.18um となっている。
2004 Q9 月に、SMIC は12 インチ0.1um プロセスの攵ラインをBで立ち屬押現在量U中であり、中国にとっては最高レベルの攵ラインである。しかし、この]ライン使われている]は韈L外からの輸入である。
このため、「11 期5 カQ画(2006 Q〜2010 Q)」期間では、中国当局は半導]の_j研|項`を策定し、100nm のエッチング、露光、イオンR入など関連分野の研|を膿覆垢襦 Jにk陲寮果が出ている。

3)パッケージング\術
現在、世cレベルではパッケージングはハイスピード、高信頼性で且つ、j模攵のX況にある。k機中国では、独O研|開発が進められて、ある度の成果が実現している。Z型的なものは、銅Y佳o司が研|開発したパッケージングモジュールとパッケージングプレス、振華集団建新子会社が研|開発したパッケージングプレス、中電集団45 所が研|開発したO動パッケージングなどがある。
 現Xの中国地場半導パッケージングメーカーは、基本的に外@と湾U企業が中心となっている。

4)テスト\術
中国は、20 世紀の80 Q代後半に、中国半導テストのO社開発にDり組んできた。中国半導テストはk定の発t水にあるが、世cレベルに比べるとまだjきな格差が擇犬討い襦C羚半導テストの中で、中小模が80%をめている。j模の半導テストについて、中国勢のDり組みが空白となっており、完に輸入に依Tしている。


2008−2010 Q中国半導x場におけるプロセス別要構成比と、2007−2010 Qの世c半導x場の見込み
2008−2010 Q中国半導x場におけるプロセス別要構成比と、2007−2010 Qの世c半導x場の見込み


セミコンダクタポータルのコンテンツパートナー、アレグロ インフォメーション・インク(以下アレグロ)による、中国のエレクトロニクス・半導・]晶分野のマーケット情報です。アレグロは、同社独Oの調h及び、中国国家統局、CCID、中国電子報、経済参考報、国際金融報などからuたフレッシュな情報をベースに、に中国のIT、エレクトロニクス、半導・]晶関連の情報収集・提供、分析、調hを行っています。今v、提供したのは、同社の月刊レポート「中国レポート:Electronics and Semiconductor China」の2007Q6月、らのks粋です。

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