図1　Micronの広��工場での1β����量�凮始の祝賀会　出�Z：セミコンポータル撮影

この式�Zにも�@称がつけられており、「Advancing the Future from Hiroshima」と��して行われた。式�Zでは、経済�噞省商��情報��策局長の野原諭��、広��県����の湯崎英�}��、駐日�j使のRahm Emanuel��が祝��を述べた。

その背景には、日本���Bから1β nmのDRAM�攵�に向け最�j�\成金465億��が交��されることが��まったため、���B関係�vへのお礼という�T味がある。1β nmとは、13nm以下、すなわち12〜13nmのプロセスノードとMicronはアジアでのオンライン記�v会見で述べており、DRAMのプロセスノードとしては最も先進的だ。現在のロジックでも5nmノードでの実際の最小線幅は14〜15nmであるため、線幅だけで言えば最も微細な半導��チップだといえよう。

DRAMメーカーはこれまで20nm以下のプロセスを、ファウンドリと違って、いきなり14nmや7nmとは言わず、19nm、17〜18nmと少しずつ刻んで表現してきた。それを1x nm、1y nm、1z nm、と表してきた。1z nmの次は1α nm、今�vの1β nmと��く。さらにその先は1γ nmとなるが、Micronはここで初めてEUVの登場となるとみている。

NANDフラッシュが3次元�妓�にセルを積み�屬欧討い�ことで集積度を�屬欧襪里��瓦靴�、DRAMは1セルに溜める電荷量を微細化しても��らさないようにするため、シリンダー型のセルをセルトランジスタの�屬膨_ねる構�]で3次元化にして高集積化を進めている。今�vの1β nmプロセスDRAMは広��で設��し量��も行っている。

広��工場はDRAMだけの工場だが、テクノロジノードとして、1β nm 以外にも1y nm、1z nm、20nm、25nmの����も���]している。これまでの最先端であった1α nmノードの����は�盜颪離▲ぅ瀬��Ε椒ぅ検爾燃�発され、��湾工場で�攵�している。広��工場はDDR5やGDDR6x、LPDDR5xなどDDR����に加え、DRAMダイを複数���_ねたHBM2eも�攵�している。

今�v、Micronはクリーンルームの外�笋�らだが、クリーンルームで動く搬送ロボット（Foupを搭載）やマルチチャンバ����などを見せている。しかし、�^真撮影は禁�Vされている。�W井を走る搬送ロボットの搬送レールは2層構�]になっており、�屬離譟璽襪魯魯ぅΕДい扉}び、���]����から�`れており高�]で動く。その下にはシティウェイと�}ばれるレールで���]����に�Zい通路となっている。この2段構成の搬送システムをAMHS（Advanced Material Handling System）と�}んでいる。搬送レールを2層構�]にしたのは、搬送効率を高めるためだとしている。つまり、衝突せず、待つこともせず、常に搬送ロボットが動いている�X��を保つ。

もちろん、スマートマニュファクチュアリングを推進しており、����ウェーハをカメラでモニターしており、異常が��これば検出する。���]����からの�j量のビッグデータを収集しており、データを解析し予��保��に努めている。搬送ロボットのモータードライバからデータを収集し、インターフェイスを経て、工場内のネットワークでつながれ、コンピュータで処理されたデータをモニターする。これによって歩�里泙蠅鮓��屬気擦討い�。Applied Materialsや東�Bエレクトロン、SCREENなどの����が設��されているが、人�}を介さずウェーハを流している。

マイクロンジャパンは積極的にDEI（Diversity, Equality, Inclusion）を推進しており、��性や外国人の採��を進めている。例えば2017�Q度には採��した人�^の中に��める��性の割合は10%しかいなかったが、2022�Q度は43.6%にも達した。マイクロンジャパンは働きやすい職場として�j企業�靆腓涼罎任�20位、ハイテク企業の中では1位に��定されている。外国籍の��業�^は、����の30%��度��めるという。

ただ、�]期的にはDRAMやNANDフラッシュなどの����は在�Uが�Hく、当分は在�U調�Dを進めなければならない。すでに20%の����を最�Z、発表している。これから来�Q�i半にかけて�攵盋を�\やせないため、�Q度内の投�@を��らさざるを�uないが、Micronは財���X況を見ながら投�@を�M��する�e勢は変わらない。