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ドイツのMerck、日本法人の半導プロセス薬開発に1億ユーロを投@

医薬や化学薬に咾ぅ疋ぅ弔Merck社は、日本の電子材料分野に1億ユーロ(約135億)を2025Qまでに投@すると発表した。に日本は、半導が咾ぼf国と湾にZい国であり、_要な拠点だと同社は位づけている。1億ユーロは半導とディスプレイ材料に投@する。Merckは半導プロセスに使われる材料をほぼカバーしているという。

図1 メルクエレクトロニクスのK業所 出Z:Merck

図1 メルクエレクトロニクスのK業所 出Z:Merck


Merckはヘルスケアで定hのある化学薬メーカーだが、日本法人のメルクエレクトロニクスのK業所は1984Qの設立以来、半導・ディスプレイ]フォトレジストおよび電子材料関連薬 (現級]、シンナー、リンス]、`]、反o防V膜剤、密\剤、絶縁膜形成剤、保護膜剤)などの H岐にわたるを開発してきた。日本の拠点は、メルクのグローバルな半導材料業に貢献しており、2021Q1月には約 2,000万ユーロ(約27億)を投じ、K県陲練X川xで最j模をもつC積 6,000平汽瓠璽肇襪凌兄楡澆鳬A工した(図1)。

このK業所は研|開発から]までのラインが揃っており、「W操業とW定供給」がこの業所の価値となる、とメルクエレクトロニクス代表D締役社長のP田Mは語っている。

Merckが扱う半導プロセス材料は図2にすように、パターニング、デポジション、平たん化\術、エッチング、浄、ドーピング、パッケージングなどのプロセスに及ぶ。この内、日本法人が扱うのは、パターニングとデポジションである。


半導]工をカバーするメルクの幅広い群 / Merck

図2 半導プロセスを広くカバーする 日本法人のK業所ではパターニングとデポジションを扱う 出Z:Merck


パターニングでは、フォトレジストだけではなく、プロセス改良ソリューション材料やプロセス薬、DSA(Directed Self-Assembly)\術などの材料をeつ。

フォトレジストでは、エキシマレーザー向けのKrF/ArF、リフトオフ、イオン中のマスクとなる厚いレジストなどがある。プロセス改良ソリューションでは、反o防V膜や、パターン崩れを抑えるArF浄]、EUVリンスなどを揃えている。プロセス薬では現級]やエッジビードリムーバーなどをeつ。

デポジションでは、CVDのプリカーザーとなる材料に加え、SiO2をスピンオンガラスで形成するための材料をeっている。メルクエレクトロニクスによれば、CVDの材料だけではなく、スピンオン絶縁材料と両気魴eつ化学メーカーはMerckだけだという。

現代社会は先進デジタル様式(Advancing Digital Living)になっている、とMerckは見ており、そのために要な半導要が拡jすると共に半導不Bも当Cくと予[する。さらに2020Qから始まった新型コロナのパンデミックとデジタルライフは新しい要を作り出しているため、半導要はますます高まると見ている。K業所には現在250@いるが、最終Qの2025Qまでに30@を\咾靴280@に\やしていきたいとT気込んでいる。

(2022/04/27)
ごT見・ご感[
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