EUVリソが翁緩に羹け渴殊、TSMCが1000綏/泣、ギガフォトン140W
EUVが緬悸に渴殊している。駱涎のTSMCがASMLのNXE:3300B EUVリソグラフィ劉彌を蝗って、1泣に1000綏笆懼、溪各できたことを、オランダのASMLが券山した。また泣塑のギガフォトン(井揪瀾侯疥の100%灰柴家)は染瞥攣翁緩レベルに奪い140W、デュ〖ティ孺50%で息魯笨啪を茫喇したと券山した。
鼎に、勢柜サンノゼで倡號されたSPIE Advanced Lithography Symposiumにおいて券山した。TSMCのR&DディレクタであるAnthony Yen會は、≈NXE:3300B EUVシステムを蝗って呵奪テストランをしたところ、各富叫蝸90W笆懼を瘦ちながら、24箕粗で1022綏のウェ〖ハを溪各した∽と揭べている。さらに≈EUVシステムの材墻拉を績した馮蔡に塔顱している∽と魯ける。
ASMLによると、このNXE:3300Bシステムは、附哼TSMCにある2駱の劉彌の柒の1駱で、糠瀾墑のNXE:3350Bシステムも2駱TSMCへ叫操が徒年されている。TSMCは欄緩ラインでEUVを蝗いたいと揭べている。
ASMLのEUVサ〖ビスおよび瀾墑マ〖ケティング嬸嚏のVPであるHans Meiling會によると、≈TSMCでのテストランは、NXE:3300Bスキャナ〖システムの墻蝸を績した。碰家は、2015鉗に1泣碰たり1000綏笆懼のウェ〖ハプロセスを謄篩としていた。海稿は、各富のパワ〖をさら籠裁させ、システムの∈availability∷を猖簾し、眶泣笆懼に畔り剩眶の杠狄が奧年して蝗えることを納滇する∽と揭べている。
辦數、ギガフォトンはEUVスキャナ〖脫のレ〖ザ〖欄喇プラズマ∈LPP∷各富のプロトタイプ怠で、これまで呵光叫蝸の140W、デュ〖ティ50%の息魯笨啪を茫喇した。2014鉗6奉瑣に券山した箕は92Wであったから(徊雇獲瘟1)、ほぼ徒年奶りのレベルに茫したことになる。叫蝸が羹懼した妄統は、ドロプレットを腮井步し奧年丁惦したこと、蓋攣レ〖ザ〖によるプリパルスとCO2レ〖ザ〖によるメインパルスの寥み圭わせ、姬眷を網脫したデブリ近殿禱窖などによるという。
ギガフォトンは、2015鉗瑣までにプロトタイプLPP各富で250Wを謄回す。この叫蝸はメモリ〖などへの翁緩灤炳が材墻になるレベルである。
徊雇獲瘟
1. EUVリソグラフィ各富、100Wが紀鎳柒に (2014/07/01)
(2015/02/27)
