このような研�|課��を胸に秘め、７月16日から9月2日まで、48日間をかけて世�c�k周をしてみた（�R3）。その間、半導��関連企業を中心に13カ国、40社を訪問した（�R4）。その中で、最も印��的な訪問はどこかと問われたら、迷わずオランダのASML社を挙げる。印��的というよりも、�嗄�なインパクトを�pけたと言った�気���確だ。ASML社を訪問した�呂蓮�昼間のファブツアーを反芻して、なかなか��りにつくことができなかった。

　ASML社は、世�cで最も高価な�@密機械である露光����の専業メーカーである（�R5）。半導�����]����メーカーの売�峭皀薀鵐�ングを見てみると、1996�Qにトップ10入りしている（図1）。その後、���]に順位を�屬欧胴圓�、2002�Q以�Tは3位をキープしており、2位のTEL（東�Bエレクトロン）に�{いつきそうな勢いである。

　����業�cでは、1992�Qから2000�Qまで、AMAT（アプライドマテリアルズ）、TEL、ニコンの���咾了�代が��いた。2002�Q以�Tは、AMAT、TEL、ASML���咾了�代に突入したと言える。�Q�Q毎の売�峭發鮓�ても、この3社が突出していることが分かる（図2）。

　次に、露光����分野における�x場シェアを見てみよう。��数ベースでは、1990�Q代初めまで、ニコンとキヤノン合わせて世�cの90％以�屬離轡Д△鯑磐�していた(図3)。ところが、現在は、ASMLがトップに立った。また、売�峭皀戞璽垢離轡Д△任蓮�ASMLが50％を��えるシェアを��めている（図4）。つまり、ASMLの露光����は、ニコンおよびキヤノンより単価が高いにもかかわらず売れているということになる（�R6）。

　このASML社の��進撃の秘�Sはどこにあるのだろうか。その�v答が、ASML社のファブツアーから��らかになった。その�k�陲鮠匆陲靴茲Α�
　ファブは、100��度のセルから構成されている。�kつのセルで、1��の露光����が組み立てられていく。このファブでは、i線、KrF、ArF、およびArF�]浸、4�|類の露光����が組み立てられているという。�Qセルには、�峙�4�|類の����のさまざまな組み立て��中の段階が見て�Dれた。

　驚いたことが二つある。
　まず、どの露光����もほとんど同じように見えたことだ。そのことを��問すると、「i線、KrF、ArF、およびArF�]浸、��て同じプラットフォームだ」と言う答えが返ってきた。
　��に、世�c�k高価な�@密機械を組み立てている割には、随分人が少ない。筆�vは、ドライエッチング����の組み立て現場を数�Hく見たが、それと比較しても随分少ない 。そこで、1��何人で組み立てているのかと��問すると、なんと、「One guy」だと言う！

　恐らく、ASML社はトヨタのセル�攵��擬阿鮑涼�していると思われる。����のサプライチェーン管理もトヨタ�擬阿任呂覆い�と思われる。また、露光����を、土��、ステージ、レンズ�U、光源などのモジュールに分割している。�Qモジュールは、専門の外�陬瓠璽�ーが���]する。例えば、レンズ�UはCarl Zeiss社が作る。ASML社では、外�陲悩遒蕕譴織皀献紂璽襪離▲奪札鵐屮襪鮃圓Α�
　案内�vの�Bによれば、露光����の85％は社外で作られ、ASML社が行うのは残りの15％だという。ASML社とは、極�bすれば、“アッセンブルメーカー”であるとも言える。そのアッセンブルする様は、まさに“積み�v”のようである！　だから、「One guy」で�科�ということだ。

　ムーアの法�Г��瑤蕕譴訥未蝓�半導��デバイスは、3�Qで4倍集積度を�\�jさせてきた。それと共に、素子は70％に微細化されてきた。また、シリコンウエーハは�j口径化し、配線材料は低�B�^化のためにAlからCuに変わった。このような�\術の変わり�`に、����メーカーは、より高�@度な����を開発し、提供してきた。
　筆�vの�瑤觚造蝓△曚箸鵑匹�����メーカーは、そのたびに、新たな����をゼロから作っていたのではないかと思われる。例えば、プラズマを使う成膜����やドライエッチング����は、シリコンウエーハが�j口径化するたびに、莫�jな開発投�@を行って、これまでとは��く異なる新������を提供してきた。

　このような半導������業�cの中で、ASML社の����開発戦�Sは、極めて異色かつ合理的である。ASML社の�咾気糧誦Sは、i線の露光����を設��する際、その後10�Q以�屬謀呂辰督銘�するプラットフォームを構築したことにある。つまり、ASML社の今日の隆�rは、最初の“極めて�R越したアーキテクチャ（設��思�[）”による所が�jきい。

　ArF�]浸の次の露光����は、ArF高屈折率�]浸か、EUVLか、リソグラフィの世�cは混沌としている。世�cでは、EUVLの実現に期待する�mも�jきい。EUVLにおいては、これまでとは��く異なる����構成が��要となる。したがって、ASML社も再び、ゼロから露光����のアーキテクチャを作らなくてはならないだろう。
　ASML社がどんなEUVLのアーキテクチャを構築するのか。ニコン社およびキヤノン社の巻き返しはあるのか。��に、100億��とも噂されるEUVLを、本当に量��に使う半導��メーカーがどれだけあるのか。今後も、半導��の微細加工から�`が�`せない。

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�R1：2007�Qになって、�盜颯謄�サスインスツルメンツ社や日本のソニーなどが、45nm以�Tの�O主開発は行わないことを発表した。微細化が�駘�的にも経済的にも困�Mになってきたからだ。もし微細化が�Vまれば、35�Q以�幵�いたムーアの法�Г�終焉を迎えることになる。

�R2：角田直�`著『30万����でぐるり夢の世�c�k周』（�g��社新書）によれば、世�c�k周とは“�諒人里判j�ﾍ里魴Q々�k�vずつ横��して出発地に戻ること”と定�Iされている。��って、その辺を適当に�k周したからと言って、世�c�k周したことにはならない。

�R3： “48日間世�c�k周“については、次�v以�Tに詳細を紹介したい。

�R4：東��セミコンダクター社のリソグラフィの責任�v・東�v��は、露光����を“まさに兵�_”と言った。いい�uて��である。

�R5：現在の最先端露光����ArF�]浸においては、日本メーカーが30数億��であるのに�瓦掘�ASMLは50億��であるという噂を聞いた。

�R6：ドライエッチング����は、露光����の10分の1の価格。恐らく、����点数も価格に比例していると思われる。その10分の1の価格（����点数）のドライエッチング����と比較しても、格段に、人が少なかった。