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実化に向かい邁進する、スピントルク型メモリ

東j学の佐藤ら(w称S)は電子スピンに情報を記憶させる新しいメモリ\術を開発し、盜颯錺轡鵐肇D.Cで2013Q12月開された国際学会IEDM(International Electron Devices Meeting)において発表したと、12月10日の日本経済新聞は報じた。スピンは直菘に電子のv転になぞらえることができるので、峺きのスピンに例えば”1”を割りけ、下向きのスピンに”0”を割りけることが可Δ砲覆襦

このメモリは、スピンR入磁化反転と}ぶ新しいデータ書き込みモードを使ったデバイスである。下記にやや詳しく述べるが、MRAMデバイスとしてするには|々の要Pを満たさなくてはならない。日経の記では、このメモリは記憶保Tには外霤杜を要しないので、不ァ発性であり電源オフ時でもデータは保Tされる、としている。演Q素子とk化できるので、来はプロセッサにレジスタやキャッシュなどとして内鼎任るだろう。加えて、新メモリはDRAMと比べて30倍も高]になると、語られた。PCに応すれば、動時にHDDからDRAMにメモリをローディングする要がなく、不ァ発性メモリそのものから動プログラムを読み出せるため、素早く立ち屬る。

IEDMの歴史は古く、1vの開は1955Qだった。当時は7歳になったばかりのトランジスタなどが中心のBに屬辰拭IEDMは、半導デバイスの開発と発tに最もjきく貢献した学会であるといえる。斬新なデバイスの研|開発のテーマが発表される学会であるが、そのh読は厳しいことで定hがある。H数の著vがb文を応募し、拒絶されて落胆する。したがって、今vの佐藤のように発表の栄誉にLまれたことは世c的なトップレベルの判定を通ったということをT味し、内容の高さはもとよりそのデバイスがZく陽の`を見ることが咾期待される。

佐藤が発表したのはMRAMの中でも比較的新しい\術でSpin Torque Transfer、SしてSTTと}ぶ動作モードにうタイプだ。邦lではスピンR入磁化反転と表現されている。佐藤のb文の詳細は、現在は筆vにはわからない。ただ、東は以iから、図1のようにMagneto Tunnel Junction (MTJ)を紹介している(参考@料1)。MTJは喙Юフィルムそれぞれ、AとBの2からなる。その2のフィルムの間にトンネル電流を流す`的で薄いフィルムを挟むサンドイッチ構]をしている。MTJに貭召謀杜を流す時には、磁性A―トンネル絶縁膜―磁性Bという差腓謀杜の経路がまる。そして、jきな磁気B^GMR(giant magneto resistance)を出現させることが可Δ澄


図1 MTJの動作原理

図1 MTJの動作原理


図1ではMTJの磁性AとBにおいて磁化の向きが互いに平行(P、tちparallel)な時を仮に”0”とするが、MTJは低B^をす。反瓦鉾進森(AP: anti parallel)な時を”1”とする。その時は、MTJは、GMRが発擇傾磋B^Xになる。このが新しいMRAMの原理になっている。そしてMTJでは喙ЮBでのスピンの向きは変えないことに料Tすべきだ。

RTしなくてはならないのは、読出し時にスピンの向きが変わらないように低エネルギーの電流によってデータを検出することだ。”0”から”1”へデータを書くときはMTJが低B^なので、問は少なく、書込み電流で磁化反転を発擇気擦襦5佞両豺腓鰐筱である。”1”から”0”への書込みはB^がjきいためである。しかしながら問はタKされてSTT、tち磁化反転が惹される書込みの条Pは理解されたと、信じている。

よく瑤蕕譴討い襪GMRを発見したのは、フランス人のAlbert Fertとドイツ人のPeter Grünbergだ。二人は2007QにこのGMRの発見をh価されてノーベル駘学賞をp賞している。量子学で説されるこの原理をいて東はスピンMOSトランジスタを開発した。スピンMOSトランジスタは、MTJを搭載しておりドレインに直Tさせている。

MTJを使ったスピンR入擬阿徴は磁化反転に要な電流値が磁性の積に比例するため、微細化に好都合なことだ。微細化を進めると、書込み電流がり低電化を達成しやすくなり、かつ集積度も屬る。

喙ЮBはハーフメタルがSTT材料として好都合だということもわかっている。佐藤とは、別のグループに錣垢訶跋jの高梨はハーフメタルの例を@料にしている(参考@料2)。それによると、ハーフメタルは、室aで100%のスピン分極率をeつ。そしてキュリーa度は室aを越え、フェルミCZfで数mVのわずかなバンドギャップがある、などの徴がある。例えばNiMnSbやCo2MnSiなどがハーフメタルであり、ホイスラー合金とも言われている。

mい、東jや東の努により、我が国はGMR効果をいたSTT MRAMにおいては世c的に見ても先頭集団を走っている。数Qもすればこのデバイスが我が国において実化されると、jきく期待している。

参考@料
1. 「スピンMOSトランジスタの基本\術を開発」 (2009/12/07)
2.高梨弘「スピントロニクス材料の現Xと課」 (2009/07/09)

エイデム 代表D締役 j和田 敦之
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