半導��は、1947�Q12月に�櫂戰訶��B研�|所のジョン・バーディーンとウォルター・ブラッテインの二人が、�峪覆任△辰織Ε�リアム・ショックレイの外出中にトランジスタの�\幅作��を見つけたことに端を発した。以来、接合型トランジスタ、プレーナ�\術、集積�v路へと発�tし、今日のマイコンやメモリ、アナログ�v路、デジタル�v路などさまざまな�v路をシリコン�T晶に刻み込んできた。

図　半導��歴史館の堀内�l�領r副館長　ちなみに館長は牧本次��SSIS理��長

半導��歴史館が扱うのは、日立��作所やNEC、富士通、東��、��菱電機、ソニーなど日本のエレクトロニクスメーカーがこれまで�Dり組んできたテーマが中心。当時の�{い�\術�v・研�|�vが�Xい思いを�eって、何とか半導��チップをモノにしようと�Dり組む�eがそこに刻まれている。このアイデアの元になったのは�櫂轡螢灰鵐丱譟爾砲△襯灰鵐團紂璽織潺紂璽献▲爐澄Ｈ焼���の歴史をバーチャルなメディアを使って書き記しておこう、とみんなが参加するようになったという。

集積�v路と個別半導��、プロセス�\術、パッケージング、業�c動向、応������、黎��期の人々などをまとめながら、1950�Q代から2000�Q代に渡る半導��のエポックメークを書き記してきた。作業は2009�Q6月ころから始まった。���^、�}弁当で原�M作りから��集作業、言��の統�k、�h読、デザインなどに��け暮れた。完成したのは2010�Q11月。以来、少しずつではあるが、ウェブサイトを��新し、元工業調�h会社長で月刊誌「電子材料」の��集長を��めたジャーナリストの志���m�dさんが集めた、「志���@料室」も新設した。

コンテンツは単なる昔の�v顧�{ではない。半導��に使われた電子�v路の教科書にもなっている。さらに、半導���噞の勃興期から発�t期にかけて先人達が�Dり組んできた�X�Tを今の�{い人たちに伝えたい、という気�eちがよく現れている。

歴史館副館長の堀内�l�領r��(図)をはじめ、コンテンツ作りに携わってきた人たちは、コンテンツを工業高�髻�工業高等専門学�髻⊇j学の教育課��などで使ってほしいと願っている。例えば、これから先の半導��はどうなるのかを考える時、これまでの半導��はTTLやECLからCMOSへと変化していったことを理解する��要がある。なぜ変化してきたのかを考える場合に、TTLやECLを理解していなければ、CMOSへの変化（消�J電��）が理解できないからだ。さらにCMOSは「1」でも「0」でも定常�X��では電流は流れないが、「1」から「0」へ�，觧�、あるいはその逆の時だけ、電流が�堙賄�に流れる。このことを�瑤辰討い譴弌⊆��S数の�\加と共にCMOSは消�J電��が�\�jしていく��実を理解できる。

このことは最�Zのマルチコア化にも通じる。周�S数が2GHzを��えると半導��の電流密度は�jきすぎて�科�冷却しなければ使えない。冷却せずに使うためには周�S数を落とすしかない。周�S数を落とせば性�Δ睛遒舛襦�だからマルチコアにして並�`動作させることで性�Δ��屬欧襦△箸い��lだ。クロック周�S数と消�J電��はスーパーリニアな関係（1乗より�jきいn乗）にある(参考�@料1)。しかし周�S数と性�Δ隆愀犬呂曚椒螢縫△澄�たとえばクロックを80%に下げると性�Δ�80%に下がるが消�J電��は50%��度まで下がる。このためCPUをもう1個並�`に動作させると、理�b�崟��Δ�80%×2倍になり、消�J電��は50%×2倍になる。すなわち消�J電��は1のままで性�Δ�1.6倍に高まる。

マルチコア化の理解は、CMOS�v路を�瑤辰討い襪帆瓩ぁ�マルチスレッドのシングルコアはさらにメリットが�jきいことも�~単に理解できる。CPUの消�J電��を��めるALU（�Q術演�Qユニット）にタスク(仕��)を振り分け、ALUが空いている時間（働いている時間は����の30%�i後しかない）を��らすと小さな�C積でマルチコア並みの性�Δ鰓uることができる。いつどのタスクを振り分けるか、というスケジューリングがキモとなることも理解できるようになる。

こういった高集積プロセッサ半導��の理解は実は、TTLやCMOSを�瑤辰討い襪海箸��jいに役に立っている。半導��歴史館は歴史�餮譴任呂△襪�、基本�\術の理解を�\けてくれる。�{い�気�半導��歴史館ホームページに来て、�餤�の原理をしっかり学び、さらに先人たちの情�Xを汲み�Dってくれれば、日本はものすごく�jきなパワーを�uることになる。堀内副館長は「さらにビジュアルを����して魅��あるものにしたい」と�T気込んでいる。

参考�@料
1. 「グリーン半導���\術の最新動向と新ビジネス2011」、インプレスR&D発行