これらの数�Cは��て3ヵ月の�‘以振僂鬚箸辰燭發里世�、2月の数�Cを�fとして、少しずつ立ち�屬�り、その動きはずっと��肩�屬�りで�v復してきた。今�vの落ち込みを振り返ると9月の2296億ドルをピークに10月2249億ドルとわずか下がったが、11月、12月、1月と�j(lu┛)きく下がり2月の�fを迎えた。�fに落ちるのが����だった反�C、�v復のペースも��である。この�v復のペースからは半導���x場に2番?j┼n)fは��く見えない。2番?j┼n)fとは半�Q先が不��な�X況を悲�菘�に表わしているだけであり、半�Q�iから2番?j┼n)fという言��が使われたことは、単なるオオカミ少�Qだととらえてよいだろう。経済予�Rで半�Q先が見えたことはいまだかつてないからだ。

今�vの不況を2000�QのITバブルと比べてみると、ITバブルの時は2000�Q10月の1865億ドルをピークとして沈み始め、2002�Qの1月に1002億ドルの�fを迎えた。�fに達するのに1�Q3ヵ月もかかっているが、今�vは5カ月で�fに来た。�v復の場合も��い。今�vは4.8%��(f┫)まで�v復するまでに9カ月ですんだが、ITバブルの時は同じ4.8%��(f┫)になるのが2004�Q6月と3�Q8カ月もかかっている。つまり、今�vは、間違いなく��肩�屬�りの曲線、しかも����な曲線に載っているのである。2009�Q����の�j(lu┛)きな動きとこれからの成長�噞と新しい半導��の動向に関しては、12月28日の「ニュース解説」参照。

このように���]に�v復しているのにもかかわらず、週��のテレビ報�Oを見えていると、2番?j┼n)fが来る、�v復は遠い、デフレに入った、など未来が見えない�Bばかりしている。「100�Qに�k度の�j(lu┛)不況」とグリーンスパン元FRB議長がこの不況を�hしたのに�瓦靴�、��要以�屬飽兔未靴討靴泙辰燭里�日本ではないだろうか。グリーンスパン��をはじめ金融関係�vはこれまでITバブルを経�xしていない�屬�、不況というものを20�Q間、経�xしてこなかった。このために今�vの����な不況を100�Qに�k度とオーバーに表現してしまったにすぎない。現実にITバブルと比べると、今�vはまだマシといえる�X況だ。

不況、不況とテレビでは�|ばれている�k��(sh┫)で、半導���噞は��月休み返�屬嚢�場フル�攵�に入っている。テレビ報�Oに問��があり、世の中の��しい�eをとらえ切れていない。もちろん、半導���噞のフル�攵�にはリストラの影�xはある。早期��職など人を切り�圓�た影�xだ。

こういった好不況に�棺茲垢襪燭瓩砲脇�本のメーカーのように人を切るだけではなくすぐに採��できるように、フレキシブルに�官�できる派遣社�^�U度は���]業には�L(f┘ng)かせないはずだ。現に�盜餞覿箸砲倭瓩�も採��を�\やしているところも�Hい。この派遣を禁�Vするという�W下の�K法「労働�v派遣法」がまかり通ると、いよいよ日本のモノ作りは空��化へ進むかもしれない。企業にとっては好不況にフレキシブルに�官�できるこれまでのシステムを���C否定される�屬法����]業の不平等な税負担など、���]業への締め��けが厳しくなるからだ。こうなると日本は何で成長していくのか、さっぱり戦�Sが見えなくなる。

そこで提案��菅副総理はCO2排出25%��(f┫)（1990�Q比）をターゲットにした成長戦�Sがビジョンだと昨日のテレビで述べていたが、そうであれば25%削��(f┫)するために����的に���]業はどうなり、税�Uをどのようにして、実際に働くエンジニアを養成するための教育の見直しなどの�O筋を��すべきだろう。ただし、�j(lu┛)きなビジョンとして25%削��(f┫)を掲げることは��常に好ましいことだと思う。ターゲットが高いほど参入障壁は高くなるからだ。

この高いターゲットを日本がクリヤーすると世�c中のどこにも負けない�\術が�擇泙譴�。さらに、それをビジネスに変えるビジネスモデルを�擇濬个擦估�本の50�Qは�j(lu┛)丈夫だろう。かつて、�B都議定書に�盜颯屮奪轡綵j(lu┛)統�襪�サインしなかった後、�����O動�Z連盟が署�@するように��ったという経緯がある。その理�y(t┓ng)は排出ガスの少ないクルマを日本や欧�Δ�開発するとアメ�Zは負けてしまう、からだった。実際、アメ�Zは負けた。環境のハードルは高ければ高いほど、高い�\術を�擇濬个���「スーパーコンピュータ��画｣のようなFLOPS表��だけの低いハードルはもう要らない。

再�擴��Ε┘優襯�ー、蓄電池、スマートグリッド、エネルギーハーベスタ、それらを�Г┐��U御�\術、�U御�\術の要となる半導���\術、これからの高いハードルの�`�Yをクリヤーするための�\術開発に向け、2010�Qを25%削��(f┫)�\術の元�Qとしてほしい。